二手 LAM RESEARCH 590 #9027423 待售

ID: 9027423
晶圆大小: 6"
Oxide etcher, 6" Fully automated microprocessor control High-throughput vacuum loadlocked Programmable, variable electrode spacing End point detection Cassette to cassete Can accommodate 3" to 6" wafers (5) Gas channels max RF power: 1,250 W @ 13.56 MHz 208 VAC, 3 phase, 60 Hz.
LAM RESEARCH 590是一种用于半导体器件制造的蚀刻/asher设备。它能够处理直径达300毫米的晶片。590采用双腔"UniClave"设计,允许同时处理的晶片数量增加一倍,从而有助于提高生产率。该系统还具有分布式加热装置、先进的腔室几何形状和高效的抽水设计,具有优异的热性能和较低的沉积速率。此外,LAM RESEARCH 590还采用了电致沉积(epd)技术,可在工艺周期中精确控制蚀刻图样和厚度。它具有先进的特点,是处理先进技术节点和应用的理想机器。该工具具有自动加载和卸载功能,能够以单片和多片配置加载。590还包含先进的晶圆映射资产,可实现精确的过程控制。真空电平监视器配置为向操作员发出潜在损坏基板表面的警报。此外,LAM RESEARCH 590包括双串联编程和诊断功能,可实现快速、精确的流程周期设置和调整。590蚀刻器还配备了一个集成的高性能GaAs蚀刻器,用于毛毯和线端工艺,对设备表面的损害最小。最后,LAM RESEARCH 590 Etcher/Asher模型采用湿/干工艺循环,有助于降低热应力并提高总产量。这使得它成为先进技术节点和应用的理想候选者。它还提供了一个强大的解决方桉,以高吞吐量速度提供精确、高质量的蚀刻,为用户提供在半导体制造行业中保持竞争力所需的准确性和生产率。
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