二手 LAM RESEARCH 590 #9100791 待售

ID: 9100791
晶圆大小: 4"
Oxide etcher, 4" High throughput Vacuum loaded-locked Automated microprocessor control ENI OEM-6 Generator: 13.56 MHz, 650 Watts Printer Pneumatic loader mechanism Pumps Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase.
LAM RESEARCH 590是一款高性能的精密蚀刻器/asher,设计用于处理高长宽比和3 D微电子结构。它利用最新的软件为各种材料和工艺中的蚀刻和灰化应用提供全面的能力。590因其高吞吐量配置和灵活的工艺模块而适合工业生产。LAM RESEARCH 590室采用陶瓷和钛制,提供耐化学性和耐高温性能。它配备了五个电磁线圈,在蚀刻区域提供均匀的直流电磁场,保证了均匀蚀刻和高选择性。电极提供稳定且可重复的直流偏置调节,提供广泛的蚀刻深度。一个获得LAM专利的电子-回旋共振(ECR)源用高频等离子体点燃过程,从而产生选择性高、副产物少的有效蚀刻。其专有的气体动态压缩机设备以均匀的气流和径向等离子体输出提供低压蚀刻,从而产生高分辨率蚀刻。590采用LAM的专利电脑自动取样及处理系统(CASH)进行有效的取样及等离子体辨别。用于自动晶片处理和对准的挡板识别技术(BRT)确保了模具级的最佳精度。该机器能够容纳范围广泛的晶圆尺寸,从5mm到7.5"。LAM Motion Control Unit (LMS)为LAM RESEARCH 590提供了先进的运动控制技术,允许快速准确地以吞吐量放置样品。集成的自动化工艺配方提供了具有最佳参数的高效、可靠的蚀刻。先进的真空机有几个特点,提供均匀蚀刻和减少颗粒污染。例如,热冷真空抽水工具是专门为防止宏观微粒污染而设计的,而有源的背面压力监测仪则防止任何宏观污染晶圆背面。590是可靠、用户友好的高吞吐量资产。其先进的自动化和控制保证了可重复性和高产率。LAM RESEARCH 590具有多种特点,在工业、MEMS和3D微电子结构的精密蚀刻和灰化方面非常有效。
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