二手 LAM RESEARCH 715-440264-003 #293661555 待售

ID: 293661555
晶圆大小: 8"
Lower chamber assembly, 8".
LAM RESEARCH 715-440264-003是一种蚀刻器/asher,一种半导体器件,用于在基板上蚀刻或粉刷电介质、金属和其他材料。它是一种开放式管蚀刻器/灰化器,设计用于需要多模操作的化学过程,如干蚀刻、抗灰化、湿剥离和等离子体蚀刻。这种asher/蚀刻器的特点是等离子体源由一个专有的射频源和LAM专利的可调流型调节技术组成。这项技术能够对蚀刻工艺进行精确调整和精确控制,提供了广泛的工艺控制选项。这种灵活性对于实现所需的蚀刻结果至关重要。715-440264-003真空设备的设计提供了特殊的蚀刻速率控制与广泛的工艺气体污染物。真空系统有助于最大限度地减少微粒和蚀刻副产品,实现精确控制和清洁基板。此外,它的清洁品牌模型提供了使用更高等离子体源温度的选项,以产生最佳的蚀刻结果。LAM RESEARCH 715-440264-003还提供了一个先进的温度控制设备.其定制的集成高温烤箱可确保整个基板的温度均匀性,从而实现精确控制。其独特的可变温度基板支架(VTOSH)提供了精确修改基板任何部分温度的能力,为专用工艺提供了更大的灵活性和更精细的温度控制。715-440264-003在可互换气体设备方面有多种选择,包括用于控制气体引入和输送的射频多极气体喷射器和用于监测腔室环境的惰性气体传感器。可选的多端口排气机允许控制过程气体和副产品的排气,确保最佳的污染控制。这个asher/etcher还可以配备一个用于自动设置和校正的指令过程显示,允许操作员监控蚀刻过程以提高准确性。其先进的操作员界面和全面的文档使其成为适合基础和高级操作员的蚀刻器/asher。LAM RESEARCH 715-440264-003是一款先进的asher/etcher,具有多种功能,旨在提供精确的蚀刻结果。它的可变温度基板支架,多端口排气工具和过程显示允许改进过程控制和调整专门的过程。其先进的热资产和射频源可实现精确的温度控制和更高的等离子体源温度。凭借其各种可互换气体设备,715-440264-003是一个适合基础和先进用户的asher/etcher。
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