二手 LAM RESEARCH 852-011061-103 #293661544 待售

ID: 293661544
Lower chamber assembly Part number / Description 715-011665-004 / Cap, lower electrode, 4” 716-011624-001 / Ring, ceramic 716-011570-001 / Filler, orifice, W/C, ceramic 715-011035-001 / Plate, lower end (Reaction chamber) 716-011623-001 / Ring, clamp 853-013540-002 / Heated chamber manifold assembly 853-025103-003 / Lower match box assembly.
LAM RESEARCH 852-011061-103是一种为生产过程而设计的蚀刻器/asher设备。该系统能够处理各种化学物质,用于各种应用,包括氧化物蚀刻、光致抗蚀剂剥离和等离子体清洗。852-011061-103有一个专用的装载臂,并与一个单一的加工室一起操作,这样就可以对多个晶片进行高效和同时的处理。该单元设计为提供严格的过程控制,能够实现精确的蚀刻轮廓具有高度的可重复性。为了确保精确的过程结果,该机器采用了一系列高精度的运动控制系统,包括机械视觉工具进行登记和一个飞眼组件定位资产。该型号配备自动装卸站,标配直列式装载机,允许连续运行,无需手动处理部件。设备还配备了温度控制系统,在工艺室盖上保持最佳温度,在运行过程中保持稳定。此外,它还设有一个粒子监测装置,用于检测可能存在的任何粒子或污染物。LAM RESEARCH 852-011061-103采用封闭式蚀刻室,具有低温、低功率真空。这种真空能够进行深蚀刻过程和高保形蚀刻过程,从而允许具有高选择性和精确特征的等离子体蚀刻。该机还具有广泛的自动切换气体系统,可用于生产过程中不同步骤的多个气源之间的自动切换。此外,852-011061-103还配备了压力控制系统和压力控制监控器,以检查等离子体在加工过程中的稳定性,确保安全可靠的蚀刻。该工具还设计了一个用户友好的图形用户界面,允许用户设置参数、定义配方以及从安全距离监控资产性能。LAM RESEARCH 852-011061-103是一种可靠高效的蚀刻模型,旨在提供行业标准的结果。该设备具有强大的设计、精确的控制和广泛的功能,是任何需要高度精确和可重复性的生产过程的理想选择。
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