二手 LAM RESEARCH 9400 #9152576 待售

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ID: 9152576
晶圆大小: 4"
Etcher, 4" Turbo pump: STP A2203C2 Gate Valve: VAT65 VAT Controller: PM7 Chamber manometer: 0.1Torr, 629A-13799 Turbo manometer: 10 Torr, 925A117DE Roughing valve manometer: 10 Torr, 925A117DE He manometer: 0-100 Torr He UPC: 50sccm Gas: He 50sccm FC7700C Gas: Ar 50sccm FC7700C Gas: Cl2 50sccm FC7800C Gas: Bcl3 50sccm FC7800C Gas: O2 50sccm FC7700C Gas: CF4 50sccm FC7700C Gas: N2 2SLM FC7700C Software: Envision.
LAM RESEARCH 9400 蚀刻器/aser是一种用于蚀刻、灰化和清洁集成电路(IC)基板的全交钥匙干法设备解决方桉。9400利用高速、化学反应驱动的加工提高了吞吐量、准确性和可靠性。LAM RESEARCH 9400具有具有高温功能的模块化平台设计,为各种蚀刻和灰化应用程序提供一致的性能。9400专为高吞吐量应用而设计,是业内使用最广泛的蚀刻机之一。LAM RESEARCH 9400的尖端模块化体系结构为特定应用程序提供了最大的流程灵活性和定制配置。标准配置包括加工室、负载锁、过程气体管理、过程填充/排水系统和负载操纵器。此外,9400还配备了最新的流程自动化、维护和控制系统,以确保准确、可靠和可重复的操作。LAM RESEARCH 9400提供超高速蚀刻和高级、超薄膜和II-VI (MIV)介电材料的灰化,以及多层介电、金属和通过层的精确蚀刻。它具有较大的蚀刻区域,可提供高吞吐量、作业之间的快速周转和快速的处理时间。9400还提供多种蚀刻工艺,包括CF4、CF4/O2、CHF3/CF4、CHF3/O2、N2O等,使其成为先进行业应用的绝佳选择。LAM RESEARCH 9400标配三个独立的反应室,一个工艺和提取室,以及一个湿蚀刻室和辐照室。此外,还有一种高功率的氧/乙炔源可用于高温加工。9400为最高精密蚀刻和灰度设计,提高了可靠性和可重复性。它提供了高度的工艺控制,包括根据晶圆直径调整蚀刻时间和调整基板水平的气流的能力。它还能够对光致抗蚀剂、金属和介电层进行图样化和批量蚀刻。LAM RESEARCH 9400可以加工尺寸达300 mm的基板,是当今最先进的蚀刻器之一。其高速、精确的性能和模块化架构使其成为各种晶圆处理应用的理想选择,包括MEMS、LED、LED封装和半导体器件生产。
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