二手 LAM RESEARCH 9500 #9399062 待售

LAM RESEARCH 9500是利用等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）工艺进行蚀刻和沉积薄膜的先进蚀刻设备。该系统能够以高吞吐率生成高级薄膜,非常适合大批量生产需要。9500 PECVD单元提供从室温到高达500 °C高温的宽广工作温度范围。它还具有很好的工艺均匀性，提供了一致的薄膜厚度水平和均匀的沉积速率的能力。这台机器提供高速率的沉积过程，使薄膜以快速的吞吐率沉积。LAM RESEARCH 9500室采用双区结构建造，允许操作员独立控制蚀刻和沉积过程。它还配备了两个等离子体源，一个低频ECR（电子回旋共振）和一个高频RF（Radio-Frequency）。双等离子体源提供了更多的蚀刻功率，提供了以更高的速率蚀刻和沉积薄膜的能力。9500 PECVD工具还提供了广泛的基板兼容性，允许在铝、玻璃、陶瓷和硅片等多种基板表面操作。此外,该功能模块还提供了多种功能,包括高晶圆吞吐量、便于操作的自动试运行功能以及安全级别锁定功能,这些功能只允许筛选经过验证的用户访问资产功能。为确保安全,LAM RESEARCH 9500采用多层保护的多处理器控制器。它还设有一个隔离的真空室，防止危险化学品泄漏到模型之外的可能性。此外，该设备具有严格的压力水平和温度控制，以达到最佳性能并降低损坏和污染的风险。总体而言，9500是一款具有双区域设计和双等离子体源的先进蚀刻器/asher系统，非常适合大批量生产需求。本装置具有特点包装操作模块和严格的安全协议，是快速吞吐速率蚀刻和沉积薄膜的绝佳选择。