二手 LAM RESEARCH 9600 #9354013 待售
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ID: 9354013
Etcher
Etch aluminum metal and TiW layers
With vertical sidewalls suitable: 0.35 um line width
Plasma medium-high density transformer coupled plasma
Top electrode power and platen lower electrode power
Water cooled platen
Backside gas: He
C12/BC13 Chemistry used for Al and SF6 for TiW Layers
TiW Etching
Cl-Passivation step
Cl-Chemistry: AI203 Layers and silicon trenches
With minimum undercut
Process gases: CI2, BCI3, HBr, SF6, CF4, Ar, N2, 02, He
Process pressure: 0-100 mTorr
Top electrode power: 0-1250 W
Lower electrode power 0-1200 W
Process temperature: 55°C
Adjustable monochromator
Endpoint detection
With Decoupled Source Quartz (DSQ) strip module
AI Etching:
Standard recipe: 600/601
Etch rate: 800 nm/min
Photoresist etch rate: 400 nm/min
AI203 Etching:
Standard recipe: 640
Etch rate: 100-120 nm/min
Substrate, 6" diameter
Materials:
AI
AI203
Ti02
poly Si
Nb
Nitrides .
LAM RESEARCH 9600 Etcher/Asher是一款全自动、超高通量、最先进的蚀刻器和Asher。它是一种多腔设备，可以处理各种各样的基板。制作复杂而精确的功能是9600构建得非常好,同时保持长时间的过程无人值守的运行时间。LAM RESEARCH 9600旨在同时支持多种配方相关流程。这在可能需要连续运行变量或不同过程的制造环境中非常有用。9600为用户提供了在蚀刻、钝化和退火等三种主要工艺之间进行选择的灵活性。这种灵活性是由它的四个集成工艺室实现的，每个室能够对多达4个晶圆执行单独的工艺。蚀刻室是独一无二的，因为它允许使用多种化学气体，如氟、三氯化硼、氧、三氟化氮、六氟化硫和二氧化氮。钝化室设计为执行蒸气化学过程，对晶片进行一层防热、防湿、防化学污染的处理。为了提供尽可能高的吞吐量，LAM RESEARCH 9600配备了垂直和水平传递机制。水平转移选项是一个自动化的装卸平台，允许材料在加工室之间高速移动。这在处理大批量时特别有用。9600提供对整个工艺室的温度、压力和气流的超精确控制。这种精确的控制能够创建极其精确的特征,并具有精确的深度和宽度公差。集成计量学监视器跟踪整个系统的过程参数，允许更高的收益率，减少周期时间，更好的过程优化。LAM RESEARCH 9600是一款功能强大的基于x 86的CPU,具有业界公认的Linux®操作单元,能够管理多达200种食谱。稳定、可重复的结果有助于确保最高的蚀刻和钝化质量,并以最小的人工干预。9600是一个可靠的解决方桉,适用于需要可靠、高效的蚀刻器/asher的用户。其多腔机床、精密控制、自动化装卸平台，为满足当今复杂蚀刻钝化工艺的需求提供了必要的能力。
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