二手 LAM RESEARCH A 9608 PTX #9217816 待售
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ID: 9217816
晶圆大小: 8"
优质的: 1998
Metal etcher, 8"
Integrated gas panel
Mainframe:
Alliance 6 rainbow standalone
TCP Standalone
Alliance A2
Alliance A4
Alliance A6
Chamber:
PM 1 / Microwave
PM 2 / 9600PTX
PM 3 / 9600PTX
PM 4 / Microwave
PM 5 / Aligner
PM 6 / Cool station
Box 4:
Electrostatic chuck
Turbo pump on process chamber
VAT65 Turbo gate valve
Endpoint detection system
Endpoint type: Photodiode
CD Rom manuals included
Alliance:
MAG7 Robot
Dual blade
VCE6
VCE: Rotation
VCE Seal: Dynamic seal
Signal lamp tower
Heated gate valve (PM2, PM3)
Turbo pump:
PM 2 / SEIKO SEIKI / H1303CV3
PM 3 / SEIKO SEIKI / H1303CV3
RF / Microwave generator:
PM 1 Top / MKS / CPS
PM 2 Top / ADVANCED ENERGY / RFG 1250
PM 2 Bottom / ADVANCED ENERGY / RFG1250 HALO
PM 3 Top ADVANCED ENERGY / RFG 1250
PM 3 Bottom / ADVANCED ENERGY / RFG 1250 HALO
PM 4 Top / MKS / CPS
GAS:
Make / Model / Gas / Flow
TYLAN / FC-2950MEP5 / N2 / 1000
TYLAN / FC-2950MEP5 / O2 / 5000
STEC / - / BCL3 / -
STEC / - / CL2 / -
TYLAN / FC-2950MEP5 / N2 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / O2 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / CHF3 / 100
TYLAN / FC-2950MEP5 / AR / 50
TYLAN / FC-2950MEP5 / BCL3 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / CL2 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / N2 / 200
TYLAN / FC-2900M / O2 / 200
TYLAN / FC-2950MEP5 / CHF3 / 100
TYLAN / FC-2950MEP5 / AR / 50
TYLAN / FC-2950MEP5 / N2 / 1000
TYLAN / FC-2950MEP5 / O2 / 5000
1998 vintage.
LAM RESEARCH A 9608 PTX是一种各向异性蚀刻器/asher，设计用于提供精确的等离子体化学气相沉积（CVD）蚀刻。它已成为先进光刻和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工艺的一种备受追捧的工具。它用于晶片的高质量蚀刻，具有非凡的精度、可重复性和均匀性，其特征尺寸不超过纳米。LAM RESEARCH A9608 PTX是内部生产工具交换（PTX）蚀刻工艺的行业标准。它提供了与生产工具交换（PTX）相同的工艺控制和可重复性，并在最严格的工艺条件下提供了优越的蚀刻特性。该设备提供了一个非常宽的工艺窗口，可以蚀刻各种基材，包括硅、金属合金、氮化物和氧化物。9608 PTX支持在没有真空系统的情况下对金属进行先进的湿式化学蚀刻。它提供精确的干等离子体蚀刻功能,包括各向同性、定向和非定向蚀刻。A9608 PTX具有高功率射频发生器、变频发生器、可编程多轴气体输送子系统和先进的热均匀性子系统。这允许精确控制和调整工艺参数,如蚀刻选择性和步长覆盖,以实现卓越的特征控制。它还有一个高分辨率的检查单元，具有多个图像捕获光学和视频选项。LAM RESEARCH A 9608 PTX具有很高的可靠性和高效率,并且具有多种配置,无论客户的流程要求如何,都能满足客户的需求。其集成的过程控制软件包允许实时蚀刻过程中对所有过程参数进行监控，并且具有低维护操作。该机还可以支持最多八种基材的批处理。LAM RESEARCH A9608 PTX易于安装,用途广泛,支持多种蚀刻工艺,包括各向异性干蚀刻、湿化学和双灌注氧化。它非常可靠，能够批量蚀刻多达八次测量。等离子体源具有自动端点检测工具，以确保基板没有过度蚀刻。可调气流确保蚀刻速率的均匀性，不分基材类型，导致返工较少，产量较高，循环时间缩短。它是纳米技术行业的一种强大而高效的蚀刻工具，可用于各种应用。
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