二手 LAM RESEARCH A6 9608 PTX #9410070 待售

LAM RESEARCH A6 9608 PTX是一款先进的等离子体蚀刻器/asher，具有卓越的性能和支持现代蚀刻/ashing要求的能力。它是一种大型、多室设备，配备了先进的高速电离流动（HVIF）技术，能够在多个处理室中清洗各种尺寸的基板。A6 9608 PTX以新一代等离子体源技术为特色，利用高频、高功率打造稳定、均匀的等离子体火炬。这项先进的技术可实现高蚀刻/灰度精度、低损坏和卓越的蚀刻/灰度均匀性。控制系统还可以自动调节等离子火炬功率和重复性，以提高过程的重复性和性能精度。LAM RESEARCH A6 9608 PTX配备了多区气体输送装置，可以精确控制蚀刻/灰化反应。多区气体输送机允许用户调整腔室设置，如压力、温度和流量，以调整蚀刻/灰化反应，以满足工艺要求。A6 9608 PTX还能够支持广泛的气体类型，如CF4（四氟甲烷）、C3F6（六氟乙烷）和其他气体溷合物，使其适用于大多数蚀刻/灰化应用。该工具还配备了可同时处理半导体和非半导体材料的特殊晶圆清洗资产。该模型设计用于在蚀刻/灰化过程之前准备基材，方法是从基材中去除不需要的材料和颗粒。LAM RESEARCH A6 9608 PTX旨在在蚀刻/灰化过程中提供更高水平的控制和精度。它配备了广泛的自动化控制系统，以确保精确和可重复的工艺条件。设备的综合软件界面允许用户观察蚀刻/灰化性能参数，并从远程位置监控流程。A6 9608 PTX旨在方便地与其他LAM RESEARCH工具集成,如预处理和后处理系统。它还允许用户为各种蚀刻/ashing应用程序配置多个流程配方和流程设置。该系统还能够存储大量的过程数据，允许用户跟踪蚀刻/灰化性能参数，并尝试不同的配方。总体而言,LAM RESEARCH A6 9608 PTX是一款先进的等离子体蚀刻器/灰化器,具有卓越的性能和支持现代蚀刻/灰化要求的能力。它配备了先进的高速电离流动（HVIF）技术和多区气体输送装置，使其成为精密蚀刻/灰化应用的理想选择。此外,该机器还提供自动化控制、过程数据存储以及多种气体类型,使其适用于各种蚀刻/灰化应用。