二手 LAM RESEARCH Alliance 4.1 #9182310 待售
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ID: 9182310
晶圆大小: 6"
优质的: 1996
Etcher, 6"
(3) System monitors
TM LID: Cylinder open / Close (Manual type)
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump option: Single pump type
Fab clean room configuration: Bulkhead
Robot:
BROOKS / MTR 5 / (2) Blades
Load lock:
Manual door
VCE Elevator: Bellows seal
Mapping sensor included
Cassette type: 25 Slot cassette
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Transport system control:
Transport VME
Multiplexer PCB
Aux position 1: Aligner
Chamber position 2:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
Chamber position 3:
4420XL, 6"
Chamber process: Poly
Endpoint type: Photo diode
Turbo pump: SEIKOSEIKI STP-H200C
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56 MHz
1996 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 4.1是一款最先进的蚀刻/asher设备，旨在满足最严格的半导体制造要求。该系统利用先进的技术,在蚀刻和灰化过程中提供最高水平的精度、速度和灵活性,同时保持卓越的吞吐量。LAM RESEARCH Alliance 4.1的核心是其先进的高容量沉积单元，该单元可实现高层沉积速率，同时实现无与伦比的均匀蚀刻。本机利用多级刀具架构，取得优异的蚀刻效果。它还采用热气和冷气调谐系统的组合，以便在低温和高温下保持最佳蚀刻速率。该资产还包括一个独特的气体流量监测仪，用于检测气体泄漏或不规范情况。LAM RESEARCH Alliance 4.1通过使用高级工艺开发工具集（PDT）确保卓越的工艺控制。此工具集使用户能够开发和调整其流程以满足特定的需求和参数。用于评估和调谐室内参数如压力、流量、温度、气体溷合物等，以实现完美、均匀的蚀刻工艺。此工具还提供实时反馈模型,允许在发生任何与流程相关的问题时快速发生故障。LAM RESEARCH Alliance 4.1还提供市场上无与伦比的卓越安全功能。先进的晶片安全设备可确保晶片在整个蚀刻过程中不会暴露于破坏性的能量水平。此外，还包括多个下游过滤器，以防止下游污染的可能性。最后，一个可靠可靠的控制系统可确保该过程不会因任何不可预见的单元故障而中断。LAM RESEARCH Alliance 4.1的总体设计和功能使其成为市场上竞争最激烈的蚀刻/asher系统之一。它的精确度、速度和灵活性使其能够处理任何蚀刻和灰化任务。因此，LAM RESEARCH Alliance 4.1是任何半导体制造需求的最佳选择。
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