二手 LAM RESEARCH Alliance 4.1 #9182311 待售
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ID: 9182311
晶圆大小: 6"
优质的: 1996
Etcher, 6"
(3) System monitors
TM LID: Cylinder open/close (manual type)
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump option: Single pump type
Fab clean room configuration: Bulkhead
Robot:
BROOKS / MTR 5 / (2) Blades
Aux position 1: Aligner
Transport system control:
Transport VME
Multiplexer PCB
Load lock:
Auto door
VCE Elevator: Bellows seal
Mapping sensor includes
Cassette type: (25) Slots
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Chamber position 1:
9400SE, 6"
Chamber process: Poly
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303
VAT 65 Pendulum valve
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz
RF Generator bottom: ADVANCED ENERGY Halo 1250 13.57MHz
Chamber position 2:
9400SE, 6"
Chamber process: Poly
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303 (Turbo missing)
VAT 65 Pendulum valve (VAT Valve controller missing)
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz
Chamber position 3:
9400SE, 6"
Chamber process: Poly
Turbo pump: SEIKO SEIKI STP-A1303 (Turbo controller missing)
VAT 65 Pendulum valve (VAT Valve controller missing)
RF Generator TCP: ADVANCED ENERGY RFG1250 13.56MHz
Missing part:
Position 2 / 3: RF Generator bottom: ADVANCED ENERGY Halo 1250 13.57MHz
1996 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 4.1是一种蚀刻或灰化设备，专为制造电子和半导体元件而设计。它是在单个或多个基板上沉积多个特征的先进平台。Alliance 4.1具有高性能、经济高效且技术先进的蚀刻室。它可为各种工艺、材料和应用程序提供可靠可靠的蚀刻工艺性能。Alliance 4.1具有卓越的蚀刻能力,能够以市场领先的精度和高精度沉积特征。这是通过先进的上下电极结构和使用精确的材料管理系统实现的。该系统采用倒角基板取向，以确保精确的蚀刻结果。此外,Alliance 4.1还具有集成的用户界面和高级控制功能。该单元设计为允许用户与蚀刻室轻松交互，包括对蚀刻过程的特定参数进行编程。此高级控制机器可用于确保在满足成本和过程目标的同时实现所需的结果。Alliance 4.1采用了一个超薄膜精密蚀刻室，能够生产小于5纳米的特性。它还提供适合满足高精度需求的蚀刻工艺，同时保持成本效益。此外,Alliance 4.1蚀刻室的设计可提供最佳性能和可靠性,并且维护需求最小。该工具的设计能够快速响应过程更改并确保可重复的过程结果。此外,资产的维护要求极少,因此对于成本敏感的应用程序来说,它是一个极好的选择。总之,LAM RESEARCH Alliance 4.1是一种经济高效且高性能的蚀刻模型,能够以市场领先的精确度和精确度在单个或多个基板上存储多个特征。其集成的用户界面和先进的控制设备提供了精确编程蚀刻空间并确保达到所需效果的能力。因此,Alliance 4.1是高精度、对成本敏感的应用程序的绝佳选择。
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