二手 LAM RESEARCH Alliance 6 #9145733 待售
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ID: 9145733
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Transport module, 8"
Robot:
Position: Transfer
Maker: BROOKS
Model: Mag 7
(2) Blades
System monitor:
(3) Monitors
Load lock:
Load lock type: Auto door
VCE Elevator: Bellows
Mapping sensor
VCE Gate valve
VCE Vacuum isolation valves
TM Vacuum isolation valves
TM Pneumatic valves
Cassette type:
(25) Slot cassettes
TM Lid:
Pneumatic cylinder lift
Up / Down actuate switch
Transport system control:
Transport VME ( MVME 147-011, VME335, DIOXVME-240 )
Multiplexer PCB
Light tower PCB
Chamber:
Position I:
Chamber type: Empty
Position II:
Chamber type: Empty
Position III:
Chamber type: Empty
Position IV:
Chamber type: Empty
Aux Position I:
Chamber type: Aligner
AUX Position II:
Chamber type: Empty
Gas boxes:
PM 1
PM 4
PM 2:
MFC Channel Gas MFC Type MFC Size (SCCM)
AC 01 - CHA C4F8 FC-D980CU 50
AC 02 - CHA O2 FC-D780CU 100
AC 03 - CHA CHF3 FC-D780CU 50
AC 04 - CHA CF4 FC-D780CU 200
AC 05 - CHA O2 (30%) HE FC-D780CU 100
AC 06 - CHA C4F6 FC-D780CU 50
AC 07 - CHA CH2F2 FC-D780CU 100
AC 08 - CHA CF4 FC-D780CU 1000
AC 09 - CHA H2 FC-D780CU 1500
AC 10 - CHA Ar FC-D780CU 1000
AC 11 - CHA N2 FC-D780CU 1000
AC 12 - CHA O2 FC-D780CU 3000
PM 3:
MFC Channel Gas MFC Type MFC Size (SCCM)
AC 01 - CHA C4F8 FC-D780CU 50
AC 02 - CHA O2 FC-D780CU 100
AC 03 - CHA CHF3 FC-D780CU 50
AC 04 - CHA CF4 FC-D980CU 200
AC 05 - CHA O2 (30%) HE FC-D780CU 100
AC 06 - CHA C4F6 FC-D780CU 50
AC 07 - CHA CH2F2 FC-D780CU 100
AC 08 - CHA CF4 FC-D780CU 1000
AC 09 - CHA H2 FC-D780CU 1500
AC 10 - CHA Ar FC-D780CU 1000
AC 11 - CHA N2 FC-D780CU 1000
AC 12 - CHA O2 FC-D780CU 3000
Standard signal tower
Wafer present sensors (WPS)
TM & VCE Pump: Single pump type
2000 vintage.
LAM RESEARCH Alliance 6是一款独立的蚀刻器和asher，设计用于半导体行业的大批量生产精密应用。它为研发和生产环境提供了一个高效、经济高效的平台。Alliance 6提供了多种功能,可实现最佳处理效率、高性能和均匀性。LAM RESEARCH Alliance 6是一种多室设备,具有一个自动转运站,最多可配备六个盒式磁带,以提高吞吐量。它提供了均匀的垂直和水平轮廓,可用于对峙、介电和各向同性蚀刻应用。系统设计还提供了广泛的蚀刻斜率控制和均匀性，以及优化蚀刻工艺控制参数的能力。该装置还具有广泛的特点，旨在控制颗粒污染和防止过程中的颗粒污染。它采用自动高真空排气机，不断更新工艺环境，防止工艺副产品积聚。该工具还具有可选的洗涤器-真空特性，可有效地从腔壁中去除颗粒。Alliance 6的设计是在3英寸或4英寸的300 mm晶圆载波资产中操作，它具有一个自动进纸器来装载晶圆和一个机器人手臂来卸载它们。它采用了平行和非平行腔室配置的组合，以达到均匀和一致的厚度。它还采用了多通道、双极性RF功率，保证了低缺陷率的均匀蚀刻。LAM RESEARCH Alliance 6具有可配置的阴极布置，主阴极站同时具有用于优化试金属蚀刻的压板和栅极。该模型采用高级诊断,包括晶圆映射,以确保精确的蚀刻回操作.它还具有高温控制、快速阴极旋转和化学输送设备的精密化学控制功能。Alliance 6利用先进的软件在整个运行过程中控制过程参数，并提供持续的室内性能反馈。这样可以连续优化工艺参数和统一的轮廓结果。该系统还设计用于通过互联网和内联网进行远程监控和数据管理,以及将配方和性能数据传输到PC或网络数据库的能力。
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