二手 LAM RESEARCH Alliance A4 #9195947 待售

LAM RESEARCH Alliance A4是一种蚀刻/asher设备，旨在为制造各类半导体器件提供先进的蚀刻解决方桉。该系统设有两个独立可控的等离子体处理室，主室包含一个平面源和一个辅助室，用于原位清洗和/或额外蚀刻处理。平面源提供绝佳的等离子体密度均匀性，使半导体器件具有高精度和重复性的精确蚀刻。此外，该装置还配有反应冷却室，确保在蚀刻过程中的最佳热控制。Alliance A4利用独特的高密度等离子体源，它能够在晶圆表面产生均匀的等离子体密度。这使得等离子体在蚀刻过程中可以到达整个晶片表面，从而产生高拱形蚀刻和高晶片均匀性。此外，LAM RESEARCH Alliance A4利用iVPD™ MassFlow™，这是一种专利质量流控制器技术，可调节加工气体并优化蚀刻剂在晶圆表面的分布。这确保了整个蚀刻过程中精确的材料蚀刻速率和精确的厚度控制。Alliance A4还有一个集成的晶片运输机器，它在主室和辅室之间运输晶片进行清洁和额外的蚀刻处理。辅助室配有第二个高密度蚀刻源以及一个额外的频率源，可用于晶圆的额外蚀刻、清洁或引发。集成传输工具可确保晶圆的精确对齐和晶圆的最佳处理,从而实现一致的高质量蚀刻性能。LAM RESEARCH Alliance A4旨在满足广泛的工艺要求，适用于各种蚀刻应用，包括深反应性离子蚀刻（DRIE）、等离子体蚀刻、表面钝化。此外,它还具有一系列高级流程控制功能,包括高级流程监控、远程腔室诊断（RCD）和具有实时反馈的RF电源监视器。这些高级功能的组合可以实现最大的过程控制和可靠的处理性能。