二手 LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM #9027019 待售

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图为 已使用的 LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM 待售
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已售出
刻蚀机、去胶机
製造商
LAM RESEARCH
模型
Alliance A6 9400 DFM
ID: 9027019
Poly etcher Software version: A2.1.1-009 Main body: Alliance 6 Process module 1: Alliance stripper Process module 2: 9400 DFM Process module 3: 9400 DFM Process module 4: Alliance stripper Monitor rack: Alliance PC and T-box, Japanese type (mm screw) Chiller: Risshi EX-2004 UPS: Nemic Lambda PS 1210 Turbo pump and controller: PM-2 turbo pump: Alcatel ATH-1600M PM-2 controller: Alcatel ATC-1300M/1600M PM-3 turbo pump: Alcatel ATH-1600M PM-3 controller: Alcatel ATC-1300M/1600M Dry pump: Transfer module: Edwards iQDP80 Loadlock: Edwards iQDP80 PM-1: Edwards iQDP80 / QMB500F PM-2: Edwards iQDP80 PM-3: Edwards iQDP80 PM-4: Edwards iQDP80 / QMB500 RF generator: PM-2 top: Advanced Energy RFDS PM-2 bottom: Advanced Energy RFG1250 Halo PM-3 top: Advanced Energy RFDS PM-3 bottom: Advanced Energy RFG1250 Halo MFC: PM-1: Gas 1: AERA, FC-D980C, 02, 5000 SCCM Gas 2: AERA, FC-D980C, N2, 1000 SCCM PM-2: Gas 1: AERA, FC-D980C, Cl2, 200 SCCM Gas 2: AERA, FC-D980C, HBr, 500 SCCM Gas 3: AERA, FC-D980C, O2, 10 SCCM Gas 4: AERA, FC-D980C, He, 200 SCCM Gas 5: AERA, FC-D980C, SF6, 200 SCCM Gas 6: AERA, FC-D980C, O2, 200 SCCM Gas 7: AERA, FC-D980C, CF4, 200 SCCM Gas 8: AERA, FC-D980C, CHF3, 200 SCCM PM-3: Gas 1: AERA, FC-D980C, Cl2, 200 SCCM Gas 2: AERA, FC-D980C, HBr, 500 SCCM Gas 3: AERA, FC-D980C, O2, 10 SCCM Gas 4: AERA, FC-D980C, He, 200 SCCM Gas 5: AERA, FC-D980C, SF6, 200 SCCM Gas 6: AERA, FC-D980C, O2, 200 SCCM Gas 7: AERA, FC-D980C, CF4, 200 SCCM Gas 8: AERA, FC-D980C, CHF3, 200 SCCM PM-4: Gas 1: SAM, SFC480E, O2, 5000 SCCM Gas 2: AERA, FC-D980C, N2, 1000 SCCM 2001 vintage.
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LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM 蚀刻器/asher是一种先进的蚀刻工艺工具，用于应用金属、玻璃、介电材料或光刻胶等材料的薄膜图样。它允许在广泛的特定过程中对任何材料或基板进行图样化沉积和蚀刻。LAM RESEARCH ALLIANCE A6 9400DFM采用直写电子束光刻、反应性离子蚀刻（RIE）、目测、真空热簇（VTC）处理、火焰处理技术进行产品蚀刻沉积工艺。该工具的工作原理是将电子束聚焦在要阵列化的材料上。这导致材料在许多很小的区域被熔化，从而产生一种液滴的模式。此后，发生化学蚀刻过程，导致液滴散布在材料上，形成纳米大小特征的图桉。创建图样后，使用反应性离子蚀刻（RIE）工艺进一步细化和清洁图样。这涉及到利用电场推动基材上的反应性离子，去除高度局部化的斑点，然后通过使用进一步类型的真空处理、火焰处理和目视检查等方式对其进行清理。Alliance A6 9400 DFM是一款极其精确的蚀刻器/asher,专为实现最佳性能和控制而构建。它能够产生低至10纳米的图样，并被广泛用于半导体制造、MEMS生产、薄膜沉积等行业。该工具还能够支持偏置、微加工、致密化和纳米线成型等特殊工艺，使其成为各种复杂作业的理想选择。ALLIANCE A6 9400DFM配备了图像校正系统，能够对小至1纳米的特征进行精确的弹道分层和分辨率。该工具还包括自动化标线程序、真空热聚类（VTC）处理、基于原位PC的算法控制等多种高级功能。LAM RESEARCH Alliance A6 9400 DFM极为用户友好，其直观的编程界面使其易于操作和修改蚀刻过程。LAM RESEARCH ALLIANCE A6 9400DFM 蚀刻器/asher是一种先进、精确的工具，用于在各种材料上应用精确的薄膜图桉。它的功能和先进的特性使其成为微电子、半导体和MEMS行业中私人或商业应用的理想选择。Alliance A6 9400 DFM 蚀刻器/asher是一种极其用户友好的工具,其直观的编程界面和高级功能使蚀刻过程更加高效和准确。
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