二手 LAM RESEARCH Alliance A6 9600 PTX #9098070 待售

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ID: 9098070
晶圆大小: 8"
Process Module, 8" Pressure Control: VAT 65 Upper Match Enclosure Fan Turbo Pump: BOCE 1300L Endpoint Filters: 405/703nm Monochromator Wafer Configuration: SEMI Missing parts: Lower match can RF match Lifter assy ISI upper match controller Upper heaters Harness and overtemp harness Card cage.
LAM RESEARCH Alliance A6 9600 PTX是一种用于半导体器件制造的干蚀等离子技术(DPT)设备。这是一个双室、多过程系统,使得多次蚀刻或asher操作能够在一个序列中执行。该装置具有等离子体源和射频功率控制组件,以及真空控制室、气闸操作和运动变压器。该室还设计有射频等离子体发生器和冷板,用于最佳热处理。机器的主要部件包括两个独立的加工室,一个蚀刻室和一个asher室。蚀刻室配有微波源、独特的RF/DC动力等离子体源以及全自动的RF源控制器,用于精确的蚀刻调节。它还具有可靠的基板输送工具以及互锁的安全系统,以帮助保护样品免受意外污染。LAM RESEARCH ALLIANCE A6-9600PTX资产可用于进行深反应性离子蚀刻(DRIE)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、绝热蚀刻减少蚀刻损伤等蚀刻和灰化操作。它还具有可编程温度高达600 °C的退火能力,适合晶片的高级退火。它提供40 mTorr的最大工艺压力,底压为5 × 10-7 Torr,有效蚀刻速率高达130 nm/min。该型号的最大射频功率为1,500 W,频率范围为10 MHz-2.45 GHz。此外,该设备还提供了具有6个可调整等离子体参数的高度精确的过程控制。这种蚀刻器/asher是高效的,为在柔性基板上产生高质量的结果提供了可重复的工艺序列。此外,系统的直观GUI和安全联锁还提高了操作员的安全性,有助于防止对样品和工艺室造成不必要的损坏。因此,ALLIANCE A6 9600PTX是半导体器件制造高效蚀刻/粉刷操作的绝佳选择。
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