二手 LAM RESEARCH Dual frequency oxide chamber for Exelan A6 #9232416 待售

LAM RESEARCH Exelan A6双频率氧化物室是一种蚀刻器/灰化器，能够进行高精度蚀刻，在半导体材料上形成图样和氧化物层。该设备用于半导体制造，旨在减少充电、提高特征定义、最大限度地减少等离子体损伤。Exelan A6采用双频电源,最多可提供10MHz。腔室以优化的过程压力运行，创造出均匀的多频等离子体，每5秒形成约1nm的氧化层。腔室有一个精确的工艺窗口，以确保最佳的模型性能和一致性，以及一个统一的薄膜。该室采用两种高速质量流控制器，每一种具有耐腐蚀的不锈钢主体和宽广的瞬时流动范围，以提供准确和可重现的蚀刻结果。它还设有一个被水淹没的喷水装置，用于冷却和循环零件表面以提高工艺透明度。该腔室有一个集成的自动排气系统，由内置的气体歧管推进单元增强，使基板的清除和容器填充更加容易和快捷。阻抗和匹配网络使机器能够以广泛的功率水平运行，并提供最佳的射频功率和波形来改善离子对基板的影响。Exelan A6还配备了深度大方30mm的不锈钢热晶片船。晶圆船的基板持有者利用金属网提供了卓越的散热能力，使热循环速度更快，温度均匀性得到改善，从而提高了工艺效果。总体而言，Exelan A6的双频氧化物室是一种精密高效的机器，能够在半导体上产生精确的图样和氧化物层。其令人印象深刻的技术和功能允许进行高精度蚀刻、减少充电、改进特征清晰度和最小化等离子体损坏。