二手 LAM RESEARCH EOS #293640560 待售

LAM RESEARCH EOS是一种为先进工艺技术而设计的反应性离子蚀刻器/asher设备。它具有广泛的蚀刻应用，从MEMS深沟到光刻蚀刻。该系统具有高级次原子蚀刻（SAE）功能,能够提供超高长宽比。它还具有高通量晶格蚀刻方法，非常适合大批量生产运行。EOS单元基于强大的纳秒脉冲等离子体技术，具有集成的偏置电源、静电卡盘和真空机。它能够提供比传统工艺快1000倍的蚀刻速率,同时保持高精度和准确性。它具有较低的蚀刻损坏轮廓，允许高长宽比和厚膜被蚀刻。它还具有较高的吞吐量能力,允许在一次运行中完成多个蚀刻过程。LAM RESEARCH EOS工具包括一种先进的电阻耦合等离子体（RCP）源，它提供高能离子，对不同成分的材料进行高效蚀刻。其多动力源资产具有改变离子能量的能力，以满足更深层次蚀刻的需要，允许过程优化。EOS还配备了低温等离子体源，使聚蚀刻和回流等反应性过程得以执行。此外，LAM RESEARCH EOS模型还配备了广泛的过程监控功能。它的过程控制设备使用户能够定制蚀刻过程参数，以确保高质量的结果。该系统还具有实时蚀刻速率反馈的过程监控单元。这样可确保以尽可能最佳的结果执行流程,并将任何流程变化降至最低。EOS 蚀刻器/asher是执行高级和可靠蚀刻过程的强大工具。它具有广泛的工艺控制特点和较高的吞吐量能力，是满足众多生产需求的理想选择。通过提供高质量和可靠的结果,可以经济高效地制造高长宽比结构和高性能设备的大表面积。