二手 LAM RESEARCH Exelan HPT #195406 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 195406
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
Oxide etcher, 8"
(3) Chambers
Configuration:
Transfer Module: A6
VCE: L-VCE : Brooks 004-9200-24
R-VCE : Brooks 004-9300-24
Robot: BROOKS, Magnatran7, Model 002-4037-02
PM-1: EXELAN HPT
PM-2: EXELAN HPT
PM-3: EXELAN HPT
Aligner: present
Aligner Controller: Model 001-4130-03
User Interface: CRT Monitor, PC, Keyboard, Signal Tower
Gas Box: Standard 8-Channel (With GIB)
TMP-PM1: ALCATEL ATH1600M
TMP-PM2: ALCATEL ATH1600M
TMP-PM3: ALCATEL ATH1600M
RPM: 685-495112
Main-Power
UPS-Power
Signal Tower: 3-Color (red, green, yellow)
EMO: Push Button
Arm type: twin arm
Lid lifter: present
Wafer Detection System
EMO Hub
Cable receways
Facilities Distribution
PM Gate Valves: 853-442064-002
TM Vacuum Valve: 796-095595-001
VCE Vacuum Valve: 796-094747-002
Module Configuration(M/D,P/N,S/N)
Process module type: Exelan HTP
One Box: ENI Parts NO : OB1-R03, LRC Parts NO.: 660-099877R101
CM gauge-1 (process chamber): MILLIPORE, 2Torr
CM gauge-2 (manifold chamber): MKS, 10Torr
Turbo pump: ALCATEL, ATH1600M
Turbo pump controller: ALCATEL, ACT 1300M/1600M
Throttle valve: Pendulum Valve, 65046-PH52-ALQ1
CM gauge-1 (process chamber): MKS, 629A-14608, 0.1Torr
CM gauge-2 (manifold chamber): MKS, 625A11TDE, 10Torr
CM gauge-3 (foreline): MKS, 625A11TDE, 10Torr
Turbo bypass valve: -
Turbo exhaust valve: Present
Slot valve: Present, 853-442064-002
Endpoint detector: 4-CH(A-390nm, B-480nm, C-440nm, D-400nm)
Cooling He MFC: MKS Type649
Turbo Pressure Switch - 1: Present
Turbo Pressure Switch - 2: Present
Chamber Vacuum Switch: Present
Chamber ATM Switch: Present
Gas No Gas Name Range Model
1 AR 1L UNIT, UFC-8161
2 N2 200CC UNIT, UFC-8161
3 O2 50sccm UNIT, UFC-8161
4 CF4 100sccm UNIT, UFC-8161
5 CHF3 50CC UNIT, UFC-8161
6 O2 20CC UNIT, UFC-8161
7 CH2F2 50sccm UNIT, UFC-8161
8 C4F8 20CC UNIT, UFC-8161
Chamber Parts - Bad
ESC - Bad (Crack & Chipping)
2001 vintage.
LAM RESEARCH Exelan HPT是一种蚀刻器/asher系统,旨在满足和超过大多数先进半导体器件的高精度蚀刻和灰分处理的性能要求。它用于MEMS设备、集成电路和其他新型设备等应用中。该设备采用高精度、自动化的过程控制功能,可实现高吞吐量、卓越的处理一致性和卓越的过程重复性。Exelan HPT由多罐处理模块、高架负载锁、接口室、晶圆处理站和真空泵组成。该系统的优点在于,它提供了一个可选的集成自动原位清洗单元,以确保最佳效果。多罐模块提供最多三个处理罐和一个回收罐,用于高效处理不同类型的材料。双罐模块提供单一基板或双基板配置,并提供多种处理模式,如湿/干蚀刻、湿/干氧化物蚀刻、湿/干保护涂层和电镀/溅射。高架负载锁允许改进晶圆处理站,以提供改进的晶圆处理和卸载。界面室可防止底物与任何加工步骤中使用的气体和液体交叉污染。晶圆处理站提供加工罐、探头和其他外围仪器之间的自动晶圆传输。多用途的LAM RESEARCH Exelan HPT机器还提供多语言菜单工具,以实现最大的工作流灵活性。此功能允许操作员根据应用程序的特定处理需求对资产进行编程和控制。该模型还具有许多控制功能,包括流程监控、用户定义的配方控制功能和一系列支持功能。Exelan HPT的优异性能使其成为高精度蚀刻和灰分处理的首选设备。该系统的灵活性允许对各种材料和基板进行高效和可重复的蚀刻,从而实现高吞吐量和出色的加工连续性。该单元是高端蚀刻应用在半导体器件制造中的绝佳选择。
还没有评论