二手 LAM RESEARCH H12IHE #293661561 待售

LAM RESEARCH H12IHE是一种高度先进的光束式等离子蚀刻器/Asher设备,旨在为各种薄膜加工和改装应用提供卓越的效果。其设计结合了工程增强功能,为关键蚀刻过程提供了出色的一致性和精确度。它具有新一代的高级高压气体控制系统,可提供高度的定制和灵活性。H12IHE是一个六室单元，由三个主要部分组成：源室、蚀刻室和N2室。它还包括具有长寿命屏蔽组件的离子枪，以提高均匀性和可重复性，以及用于改进热管理的冷却剂机。LAM RESEARCH H12IHE旨在满足最苛刻的高通量生产要求,同时在各种蚀刻参数上提供卓越的性能。蚀刻源室配有等离子源（EEM），以供应蚀刻过程所需的高能离子。高压气体控制工具具有精确的压力控制和大气阈值监测功能，以最受控制、最安全、最高效的方式保证运行。H12IHE采用了几种不同的高真空（HV）泵送技术,可实现定制腔室填充速率,并提供最佳的工艺腔室填充时间以及出色的均匀性和可重复性。蚀刻室的设计可提供等离子体过程的卓越均匀性和可重复性。其线性真空剖面可确保在基板上均匀蚀刻。LAM RESEARCH H12IHE最先进的气流控制资产提供了对蚀刻工艺物理参数的精确控制和自动化管理。N2室提供了密集的N2环境，大大降低了被蚀刻材料的蚀刻速率。此腔室还包含一个显示蚀刻过程进展情况的透明窗口。H12IHE配备了一个额外的流程模块,用户可以在模型中添加额外的流程模块,从而以更高的吞吐量运行。LAM RESEARCH H12IHE有一个全面的服务和支持人员网络作为后盾,以确保客户获得最高级别的性能和可靠性。该设备易于升级和定制,可满足最新的薄膜处理需求。它还具有嵌入式计算机系统和工业安全标准，负责实时监测安全参数。其各种设计特点，如精密压力控制、高效气体控制单元、线性真空剖面，使其能够提供可靠、可重复、高质量的效果。