二手 LAM RESEARCH Kiyo45 Poly #9137311 待售

LAM RESEARCH Kiyo45 Poly是一种主要为半导体和MEMS行业设计的低压蚀刻/灰化设备。最适合于高精度多晶硅蚀刻、蚀刻、浅沟隔离蚀刻、接触孔蚀刻、钝化层蚀刻和波导蚀刻等应用。该系统采用了一种新的、专利的、高纵横比蚀刻（HARI）技术，将气体歧管和淋浴头集成在一个整体单元中。该装置能够在非常低的气体压力下提供长而均匀的蚀刻时间，并且不会损坏装置表面。这有助于提高设备产量和可重复性。此计算机可配置为批处理、串联或独立配置,具有一系列处理室大小和配置。Kiyo45 Poly旨在为各种应用和基材提供灵活性。该工具的一个关键特点是其高精度、可控的送电资产。这使得用户能够通过对多晶硅蚀刻应用的出色轮廓控制来实现非常可重现的工艺结果。该电源可产生最大的2000W,以获得优异的多晶硅蚀刻效果。此外，LAM RESEARCH Kiyo45 Poly可以在大气压或低压能力下操作，可以从1500-2000W操作。该车型还配备了最新的等离子体控制技术。它采用分布式磁场（DMF）来提高蚀刻性能、重复性和均匀性。DMF旨在最大程度地提高整个晶片表面的蚀刻均匀性，同时有效减少氧气污染和颗粒形成。这是通过提高溅射效率和控制电极侵蚀来实现的。DMF还优化了蚀刻工艺气体在晶片表面的分布，提高了整个晶片的蚀刻速率。此外，设备对工艺气体的压力和流量提供稳定和准确的控制。过程气流由机载质量流控制器精确控制，并自动调整到工艺参数。此外，Kiyo45保利集成系统的独特设计也使得该设备的升级成为可能。这意味着机器可以很容易地针对不同的工艺气体、工艺配方或新蚀刻工艺的集成进行重新配置。总体而言，LAM RESEARCH Kiyo45 Poly是半导体行业的一种高度精确可靠的蚀刻和灰化工具，提供了出色的可重复性和轮廓控制。凭借其高速蚀刻特性和大气压力能力，该资产适用于多种应用，包括高精度蚀刻、通过蚀刻、STI蚀刻、接触孔蚀刻、钝化层蚀刻和波导蚀刻。