二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed #293615958 待售

LAM RESEARCH / NOVELLUS Speed
ID: 293615958
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
CVD System, 12" 2007 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Speed是一种用于半导体晶圆制造加工的蚀刻和灰化设备。NOVELLUS Speed平台为蚀刻和灰烬应用程序提供了先进的工艺能力和灵活性。它结合了LAM先进的等离子蚀刻系统和NOVELLUS CoreAsh Patterning技术。该平台专为最新的CMOS和半导体产品技术而设计,包括3D NAND、片上单元(Soc)、MEMS、RF-SOI。LAM RESEARCH Speed平台提供了市场上最高的蚀刻和灰分吞吐量,使客户能够最大限度地提高生产效率并最大限度地减少停机时间。凭借其先进的技术,它被设计成最大限度地减少颗粒污染,确保严密的薄膜厚度控制,并提供极低的颗粒浓度。该机器提供业界最佳的可扩展性和可重复性,同时在所有半导体过程中提供最大的过程灵活性。速度具有广泛的适用性,包括等离子体蚀刻、干蚀刻、图样、光刻、平面化和离子铣削。等离子体蚀刻室的设计提供了业界最高的均匀性,能够微调蚀刻过程以获得最佳效果。射频电源可用于蚀刻和灰分处理,提供多种工艺选项。灰室设计用于在多个晶片上提供一致的灰分速率,使电气特性能够在广泛的应用中得到控制。该工具具有良好的工艺控制能力,能够对薄膜厚度和颗粒浓度进行严格控制。资产可以以"打开"或"闭环"模式运行,每种模式都有其自身的优势。Open Loop模式允许最大的灵活性,而Closed Loop模式提供了最高的性能和产量。此外,LAM RESEARCH/NOVELLUS Speed结合了模型级和过程级技术,以实时优化过程参数。这样可以提高吞吐量和产量,减少周期之间的等待时间。NOVELLUS Speed平台为最先进的半导体处理提供了全面的解决方桉。它提供了最高的蚀刻和灰分吞吐量,紧密的薄膜厚度控制,以及提供业界最高产量的最佳可扩展性。LAM RESEARCH Speed平台拥有先进的控制系统和强大的流程平台,是寻求最大程度提高流程灵活性和吞吐量的客户的理想选择。
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