二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector Extreme #293767216 待售
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ID: 293767216
优质的: 2014
System
Chamber position / Gases
Unit 1 / SiH4, N2, C2H2, H2, HE, O2, NF3, AR
Unit 2 / SiH4, N2, C2H2, H2, HE, O2, NF3, AR
Unit 3 / SiH4, N2, C2H2, H2, HE, O2, NF3, AR
2014 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector Extreme是半导体制造业的世界级蚀刻器和asher。它是专门为关键蚀刻和灰烬操作提供先进的精度和低缺陷而设计的。NOVELLUS Vector Extreme利用革命性的高密度双源等离子体处理技术，实现了更好的控制、更低的粒子生成以及更高的后端线蚀刻应用吞吐量。它还支持广泛的蚀刻化学方法，以实现高级节点设备的通用工艺优化和经济高效的处理。LAM RESEARCH VECTOR EXTREME 蚀刻器/asher为各种设备结构和应用程序提供了最大的灵活性和可扩展性,同时支持多种软件包格式、大小和大小。它具有高度可配置的750 mm平台,能够处理高达3750 mm2的模具尺寸。其他关键特性包括动态蚀刻技术，一种先进的物理建模能力，以优化DVD应用的蚀刻过程；微米精度调平（MAL），一种独特的用于精密蚀刻工艺控制的峰谷痕迹高度补偿技术；以及可扩展晶圆更换器（EWC）,这是一个模块化的工作处理系统,具有紧密的开放式体系结构,可最大程度地提高流程灵活性。Vector Extreme的升空蚀刻功能旨在最大程度地减少在处理过程中在卡盘上移动晶片的需要,同时减少晶片上的压力变化。此外,LAM RESEARCH/NOVELLUS VECTOR EXTREME还包括先进的清洁功能,如高级高温氢化物CVD （AHT-CVD）,以确保最大程度的工艺稳定性和最小的颗粒生成。利用主动过程监视（APM）、过程适配器自动调谐和基于扩展配方的接口（ERBI）等强大的过程控制功能,可确保使用多个目标进行精确调整,从而轻松优化蚀刻过程。NOVELLUS VECTOR EXTREME提供可靠性和鲁棒性,具有广泛的功能以满足当今最苛刻的半导体器件要求。LAM RESEARCH Vector Extreme拥有先进的技术、高通量和可配置性,是您在半导体行业中所有蚀刻和灰化需求的理想选择。
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