二手 LAM RESEARCH / ONTRAK Kiyo 45 #9298320 待售

LAM RESEARCHY/ONTRAK Kiyo 45是一种反应性离子蚀刻器（RIE），设计用于半导体材料的受控蚀刻。通过其强大的等离子体发生器和真空泵送系统，能够实现高宽高比蚀刻和精确的轮廓控制。ONTRAK Kiyo 45配备单一、可调、多轴电极，用于精确控制蚀刻轮廓和蚀刻速率。蚀刻室由不锈钢构成，旨在承受等离子体蚀刻过程的高真空和热循环。LAM RESEARCH Kiyo 45使用一个装有感应耦合等离子体发生器的反应室。等离子体发生器产生一个高能、低真空、等离子体的环境，这允许形成一个具有极佳选择性和高透厚蚀刻速率的蚀刻所必需的反应性物种。Kiyo 45配备了等离子体发生器、真空泵和电源，允许蚀刻过程以几种标准烹饪模式运行，包括单步和多步配方。LAM RESEARCHY/ONTRAK Kiyo 45可以在三氟乙醇（TFE）和三种氟化碳氢化合物（TFE、CF4和SF6）等几种标准蚀刻化学中操作蚀刻单层或多层底物。ONTRAK Kiyo 45还允许用户为更复杂的蚀刻过程编写定制的优化蚀刻配方。它既能进行干湿清洁，又能进行室内高度清洁，减少背景污染。LAM RESEARCH Kiyo 45的核心是经过充分验证的多轴电极（MAE）设计。MAE是Kiyo 45的一个专有特性，它针对要求苛刻的半导体基板的快速、高度各向异性、细线蚀刻模式进行了优化。MAE是一种完全可调谐的电极,它提供精确的蚀刻控制,并具有可调电极,可实现更高的长宽比和更复杂的蚀刻图桉。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45具有完全的流程灵活性,专为在灵活的环境中运行而设计。它高度自动化,支持各种数据收集、分析和日志记录功能,以实现完整的流程可追踪性。ONTRAK Kiyo 45还配备了用户友好的图形用户界面（GUI），用于过程控制和监控。综上所述，LAM RESEARCH Kiyo 45设计用于对要求苛刻的半导体材料进行精密蚀刻，在干蚀刻和湿蚀刻化学中均具有极高的选择性和高蚀刻速率。其先进的多轴电极（MAE）和等离子体发生器系统可实现高度各向异性的细线蚀刻图样和可调电极,从而实现高长宽比和复杂蚀刻图样。Kiyo 45的用户友好图形用户界面（GUI）和工艺灵活性使其成为蚀刻苛刻半导体材料的绝佳选择。