二手 LAM RESEARCH / ONTRAK TCP 9400 SE #9203958 待售
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已售出
ID: 9203958
晶圆大小: 8"
Etcher, 8"
With cassette to cassette transport
Model 9408 includes
Rainbow platform
Ceramic free chamber with waferless auto clean (WAC)
Single chamber stand-alone version
LEYBOLD HERAEUS TURBOVAC 1000C Turbo-molecular vacuum pump
Inductively coupled source (TCP)
ESC 9400
Environmental requirements:
Temperature: 22 ± 2°C
Humidity: <50 %
Vibration sensitivity: Slight
Thermal output (BTU/Hr):
Carrier by water: 9400
Carrier by exhaust: 8400
Dispersed to environment: 20,000
Total output: 38,000
RF Generator:
Carrier by exhaust: 5000
Dispersed to environment: 3000
Total output: 8000
Power requirements: 208 VAC, 50/60Hz, 3 Phase, 80/63Amps
(5) Conductors
Type: Wye
Receptacle required: Hardwired
CE Marked.
LAM RESEARCH/ONTRAK TCP 9400 SE是一种全自动的单面蚀刻器/asher，用于半导体晶圆加工。该装置旨在提供出色的加工控制、高产量以及广泛的蚀刻和灰化应用。这种蚀刻器/灰化器由一个主腔室和一个加热的、压力控制的等离子体源以及独立的基板偏置、温度和压力控制组成。蚀刻器/asher还配备了精密的粒子光学显微镜，用于在加工过程中监测基板表面。腔室容量为200毫米（8英寸）晶片片或90毫米（3.5英寸）全晶片。ONTRAK TCP 9400 SE具有高度通用的多功能流程模块,可提供出色的灵活性、可靠性、可重复性和准确性。精密的控制系统允许在单个工具中对非活性金属和反应性半导体材料进行精确蚀刻和粉刷。该单元能够蚀刻和粉刷各种表面，从极薄的半导体器件到厚结构。此外,该单元还设计用于高真空等离子体蚀刻/灰化和低压等离子体蚀刻/灰化。蚀刻器/asher的设计具有精确的过程控制和出色的稳定性，使过程能够得到充分的优化。精确的机械手允许在蚀刻或灰化过程中对晶片进行精确扫描，并对实际蚀刻速率进行精确监控。该蚀刻器也能够在半导体基板中重复精确地形成沟槽。LAM RESEARCH TCP 9400 SE由于具有高速多工序和原位清洁功能,因此能够提供出色的保护,防止晶圆损坏。精密的机械手还确保了关键结构的均匀处理和整个腔室的精确热接触。此外，集成激光衍射诊断的高效率允许精确的过程控制和分析，同时消除尘埃颗粒污染。总体而言,TCP 9400 SE是一种高性能的蚀刻器/灰化器,可为各种半导体晶圆结构提供精确可靠的蚀刻和灰化。该装置设计用于精确控制蚀刻和灰化过程，以及可重复的性能和优异的产量。此外，它还设计用于高真空和低压等离子体加工，使其成为半导体应用的理想解决方桉。
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