二手 LAM RESEARCH / ONTRAK TCP 9400 SE #9402508 待售

ID: 9402508
ICP Etcher Platform: Alliance 4.1 (2) Chambers Chamber body: HAA Aligner Chuck type: BSR Clamp Process kit: Bottom electrode, 6" QUARTZ Disk Insulator ring Gas ring Liner WDO, QTZ, HTD ENDPT Cassette type: LVCE RVCE Chamber oring: Viton Throttle: STD Pendulum valve ATH 1600 Turbo pump STD Foreline Heater jacket: Silicon rubber Slot valve assembly with STD Oring of slot valve: Perfluoroelastomer Endpoint type: 2CH RF Generator type: Top: ADVANCED ENERGY RFDS1250 CE Fast loop Bottom: ADVANCED ENERGY RFDS 1250 HALO RF Match TCP: Assy T-match, P/N: 853-032294-002 RF Match bottom: RF Match Assy, P/N: 853-330951-021 Manometer: 0.1T/10T MKS UPC-8130 He UPC Gas / He line: STD He STD dump loop Gas Panel: Hook up: Side feed side drop Side exhaust Load lock / Cassette: Load lock type: STD VCE Load lock Platform: STD With HAA coating STD Cassette Anti-static load lock cover finish Enhanced wafer mapping Integrated cassette sensor Loadlock indexer: STD type Loadlock diffuser: STD type Wafer slide out sensor Transfer chamber: MAG 7 Robot Robot Blade: STD With coating N2 Purge bottom vent UPC-8310 Buffer ballast Aligner: STD Type Front panel: Stainless cover (3) Color signal light tower: Red, yellow, green Umbilical (75 feet): Controller to mainframe AC Rack to controller AC Rack to mainframe HX Control cable Heat exchanger hose Pump cable Gases: CL2 100 BCL3 100 CF4 200 O2 1000 Ar 500 (7) STD Gas lines (7) STD Inter gas lines (7) Filters Power supply: 50/60 Hz.
LAM RESEARCH/ONTRAK TCP 9400 SE是一种蚀刻器/asher,设计用于处理半导体晶圆、MEMS、MEMS元件和其他电子元件。该设备采用超高真空(UHV)技术,提供卓越的工艺精度和可重复性。它具有200毫米晶圆尺寸、126晶圆负载锁室和100磅(45.45kg)重量容量。UHV设计是一种全自动系统,具有模块化配置,经过优化,可生产大量组件。机器的前端包含过程模块,其中包括等离子体源、目标腔室以及用于创建清洁和受控环境的其他组件。该装置设计用于蚀刻、沉积和清洁操作。蚀刻过程使用高功率等离子体源,以高度精确的方式从基板上去除材料。沉积过程利用源将物料沉积到基材上。腔室系统有助于创造清洁、纯净和稳定的工艺环境,最大限度地减少颗粒污染和与污染有关的缺陷。TCP 940 SE的腔室机设计灵活,容许不同的製程压力,最高可达400 °C的温度。资产的自动化控制工具可以方便地进行定制和基于配方的自动处理。其先进的控制模型确保了准确的结果和最大的吞吐量。ONTRAK TCP 9400 SE是MEMS制造、医疗设备制造等精密应用的绝佳选择。它具有等离子体加工的最新技术,具有可靠、可重复的性能、提高的工艺精度、低内部污染和高产等优点。
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