二手 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #293821536 待售

LAM 4420自动等离子体灰烬/蚀刻器是一种全自动工具，用于大容量等离子体表面处理应用。此设备将asher和蚀刻器的功能结合到一个平台中,以方便和节省成本。4420利用高功率感应耦合等离子体（ICP）源,提供极快速高效的处理环境,低运行成本。LAM 4420采用模块化设计,便于各种应用程序定制。这包括选择150至800瓦功率的扩散源或并行源。该系统还包含一个20英寸的真空室，带有水平和垂直可变倾斜选项。腔室设有板载O形环密封和气体控制单元，以保持一致的真空和等离子体过程。4420配备了处理控制机，使用户能够准确、精确地控制气流、腔室压力和射频功率。LAM 4420除了提供高效的处理功能外,还提供了一个用户友好的界面,旨在适应不同程度的流程复杂性。此平台具有直观、图形化的用户界面,允许操作员自定义每个流程步骤的蚀刻参数并轻松查看结果。4420还与SEMVision、LamView和SPX Tool等各种兼容软件包兼容,为用户提供高级控制、数据收集和分析以及过程验证功能。LAM 4420的平行和扩散源为蚀刻和反应性离子蚀刻（RIE）提供了可靠的非接触式等离子体源，以便独立控制表面的性质。此功能允许用户将蚀刻过程精确控制到几纳米。此外,4420还配备了多个燃气箱,使用户可以移动到各种工艺气体,并使用最多三个独立的燃气溷合物,并最大程度地减少停机时间。LAM 4420已成功地应用于许多实验室和生产应用，从太阳能电池和半导体器件蚀刻到光刻应用。这种灵活的功能使用户能够实现蚀刻速率和选择性的最佳组合。此外,此用户友好型平台还具有众多安全功能,包括板载互锁资产、基于窗口的用户保护模型以及经过安全优化的单元设计。