二手 LAM RESEARCH Rainbow 4420 #9151548 待售
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ID: 9151548
Poly etcher, 8"
Main body
RF Unit
Power box
Clamp
OEM-6A RF Generator
CMH-11SO2 Process manometer
CMH-11SO2 Reference manometer
CMLA-21 He Pressure manometer
UPC-1360 He UPC
839-013522-001 Pressure control valve
AC-2 Controller
MFC:
Channel / Gases / Scale / Connection size
1 / HE / 300 / 1/4" VAC Male
2 / AR / 300 / 1/4" VAC Male
3 / O2 / 2500 / 1/4" VAC Male
4 / C2F6 / 350 / 1/4" VAC Male
5 / SF6 / 250 / 1/4" VAC Male
6 / HBR / 200 / 1/4" VAC Male
7 / CL2 / 300 / 1/4" VAC Male
8 / NF3 / 500 / 1/4" VAC Male
PCW:
Qty / Unit / Connection size
(4) / Main body / 3/8" SWG Male
(2) / RF Unit / 3/8" SWG Male
Vacuum:
Qty / Unit / Connection size
(1) / Main body (Chamber) / ISO 80
(1) / Main body (L/L) / NW-60
CDA:
Qty / Unit / Connection size
(1) / Main body / QC6 Connector
Power supply:
Power box: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz
Main body: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz
RF Unit: Φ3, 208 V, 5-Wire, 100 A, 50/60 Hz.
LAM RESEARCH Rainbow 4420是一种最先进的蚀刻/asher设备,旨在提供半导体器件制造中的精确性能。高性能的基于水平的系统提供了快速、准确的蚀刻速率,并为要求最苛刻的蚀刻和灰化应用提供了完美的平台。Rainbow 4420可以处理一系列晶圆尺寸，从200毫米到8英寸的晶圆，使其适合所有类型的晶圆工艺。它是使用闭环超高真空（UHV）工艺溅射室建造的，提供了高度可靠和可重复的蚀刻/灰分循环。LAM RESEARCH Rainbow 4420最多可同时处理三个气体输入；提供蚀刻或灰分工艺的选择,以实现最大的灵活性。Rainbow 4420拥有高度可靠的射频（RF）驱动过程。这样可以确保快速、准确的蚀刻速率,从而提高性能。该装置配备了最先进的端点检测能力，能够从头到尾控制蚀刻过程。LAM RESEARCH Rainbow 4420提供了广泛的蚀刻和灰分处理气体，如氧气、四氟化碳和的氙气。LAM RESEARCH高级过程控制选项（如Profile和Pressure Control选项）提供了出色的过程重复性。轮廓控制功能是一种基于配方的工艺,允许控制沉积厚度,而压力控制选项则利用射频能量来调节颗粒的能量,确保晶片之间的极佳均匀性。Rainbow 4420的设计考虑了安全性,包括用户友好的触摸屏LCD界面和安全功能,如安全联锁和自动气体关闭。它还包括一个用于自动化流程日志记录的错误记录机，确保最大限度的流程控制和消除潜在的流程缺陷。LAM RESEARCH Rainbow 4420是满足复杂半导体蚀刻/灰化需求的完美工具。该资产具有快速、准确和可重复的结果,非常适合确保一致的产品产量和尽可能高的质量。
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