二手 LAM RESEARCH Rainbow 4520 #9221215 待售
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ID: 9221215
晶圆大小: 8"
Oxide etcher, 8"
Includes:
PDW-2200 RF Generator
CMH-11S02 Process manometer
Reference manometer
CMLA-21 Heat pressure manometer
UPC-1300 He UPC
839-013901-001 Pressure control valve
AC-2S06 AC2 Controller
MFC:
Channel / Gas / Scale
1 / AR / 1000
2 / CF4 / 400
3 / CFHF3 / 100
4 / HE / 1000
5 / O2 / 20
6 / N2 / 100.
LAM RESEARCH Rainbow 4520是在半导体工业中应用的一种理想的先进蚀刻器和asher设备。它提供了在尺寸达到300毫米的晶片中蚀刻和粉刷硅、金属和有机材料层的能力。Rainbow 4520利用一个复杂的线性电感耦合等离子体(LICP)源来创建高度可重复、均匀的过程结果。可以对LICP源进行调整,以生成用于蚀刻或灰化过程的所需等离子体参数,范围从0-500 W(用于蚀刻)和0-200 W(用于灰化)。采用先进的晶片处理和运输技术,以确保晶片的准确加载,系统配备了自动等离子体板坯膨胀控制(APS)机制,以防止通常与腔室清洁操作相关的等离子体加载问题。LAM RESEARCH Rainbow 4520室最大工艺容积为360升,并用射频发生器封闭,以减少室壁上流氓物种的沉积,进一步有助于其可靠性。此外,还提供了几种室内预清洁和就地清洁选项,以确保在处理结果中可重复性达到最高水平。机器还利用一系列压力和流量控制器来维持室内精确控制的环境。真空水平可以设置为最小1 mTorr,从而确保晶圆工艺的最低基本压力。Rainbow 4520能够按照工艺配方的定义,准确地使用一系列工艺气体,如氙气、SF6、氧气、N2、O2和NF3。LAM RESEARCH Rainbow 4520还配备了数字和模拟显示设备以及用于开发高级配方的软件,使用户能够获得可重复、高质量的蚀刻和灰化效果。该单元还能够在配方周期内进行流程监控和日志记录,并提供高级功能,如超压保护、流程窗口映射以及用于改进清洁剂可重复性的双压板设计,从而进一步保证了高流程产量。该机器经过设计和测试,具有超长时间的可重复性和准确性,可以通过远程控制台进行控制,从而无需用户靠近。彩虹4520是先进半导体器件生产的理想解决方桉。
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