二手 LAM RESEARCH Torus 300K/RF #9395308 待售

ID: 9395308
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Etcher, 12" SMIF/FOUP Load module: TAZMO TRP2500 Load port TAZMO SW024 Loader arm PVSK ADS 1202H Dry pump Transfer module: LAM RESEARCH Torus 300K Transfer arm (Robot) PVSK ADS 1202H Dry pump Process module: LAM RESEARCH Torus 300K Chamber PVSK ADS 1202H Pump AD-TEC AX-1000 III RF Generator LAM RESEARCH Torus 300K Gas box LAM RESEARCH Torus 300K PC HDD has been removed Operating system: Windows 2000 2007 vintage.
LAM RESEARCH Torus 300K/RF是一种针对先进技术节点中的生产过程而设计的蚀刻器/asher。它是一种高度可配置的设备,可用于前端和后端设备制造。该系统具有300毫米晶圆容量,同时具有多达5种气体的加工气体能力,并具有先进的等离子体清洗和蚀刻工艺技术。该设备具有批处理到批处理MDC (Multiple-Drag-Chain)功能,可确保可重复的蚀刻轮廓控制。Torus 300K/RF蚀刻器具有模块化体系结构,允许轻松重新配置以满足未来需求,而不会影响原始配置。该蚀刻器采用大量并行方法优化蚀刻过程,使用多个步骤和参数来提供所需的蚀刻速率和均匀性。它具有温度控制的卡盘、源和腔室,即使对于最复杂的蚀刻作业也能保持精确的过程控制。LAM RESEARCH Torus 300K/RF可以使用各种等离子体气体和化学物质,从而能够完美控制蚀刻过程。此外,它还提供了完全自动化的机器人兼容负载码头和卡带到卡带协议,使生产过程容易和高效。LAM RESEARCH Torus 300K/RF创新的双RF发电机技术允许在高功率和低功率下运行,而不会影响蚀刻速率。此外,机器还配备了现场和实时端点检测,以确保整个晶片的精确蚀刻深度和均匀性。自适应等离子体发生器自动实时调整工艺参数,保持快速蚀刻速率,消除等离子体污染。刀具蚀刻过程的重复性也很显着,因为蚀刻速率的准确度可以达到1%以内。LAM RESEARCH Torus 300K/RF可以安装多个端点探测器,从而在端点策略之间以及在多个进程之间进行直接切换。此外,该资产还具有安全和健康功能,以确保蚀刻器100%符合最新的行业安全标准。总体而言,LAM RESEARCH Torus 300K/RF是一款用途广泛、功能强大的蚀刻器,具有精确的蚀刻速率控制和统一能力,适用于先进的设备制造工艺。
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