二手 LAM RESEARCH Torus 300K #9244819 待售

LAM RESEARCH Torus 300K是一种晶圆加工的尖端蚀刻/asher设备。该系统采用先进的脉冲蚀刻和灰化技术进行精密晶圆蚀刻。它采用脉冲蚀刻沉积（PED）技术，能够实现高通量的精密蚀刻和灰化。该装置能够高效、准确地在晶片表面上创建高长宽比结构，在制造晶片的同时保留晶片上的蜂窝图样和其他特征。该机还包括一个大气压力化学气相沉积（APCVD）工具，具有广泛的沉积材料。APCVD能够以精心控制的厚度沉积各种介电材料。而且氮化钛（TiN）是最常用的沉积材料之一，它可以优化晶圆表面和其上建立的电极之间的肖特基接触。此外，资产的主动气体控制功能有助于通过尽量减少废物来尽量减少对环境的影响；它旨在最大限度地减少气体消耗、化学废物和模型本身的足迹。圆环300K中的晶圆腔体积较大，输入和输出分布均匀。输入包括射频输入、氦气和质量流控制器，而输出包括沉积机器人和液体清洁器。一个光伏电池，一个标准部分的设备，包括测量晶圆温度。该系统还包括一个模式生成器，它根据应用程序的要求提供精确和统一的模式。在设计方面，LAM RESEARCH Torus 300K包含创新的双室模块化设计。其主要特点包括快速净化腔室、短冷却、快速斜坡和精确射频控制。双腔室设计和快速腔室净化有助于降低半导体晶片在加工过程中温度梯度的风险。此外，射频功率控制对蚀刻工艺进行了微调控制，以实现晶圆中所需的形状。总体而言,Torus 300 K是一个高效的蚀刻器/asher单元,旨在满足最高的行业标准。其精密蚀刻和灰化技术，加上可靠的射频控制，提供了与所需应用一致的详细模式。此外，其创新的双室模块设计，允许快速斜坡，安全室清洗，和短冷却周期，从而确保统一的结果。高通量和环境友好性是机器的另外两大优点，因此非常适合各种半导体制造工艺。