二手 LAM RESEARCH Torus 300S/RF #9395313 待售

ID: 9395313
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Plasma etchers, 12" SMIF/FOUP Load module: CYMECHS DURAPORT Load port AITEC WV300 Loader arm PVSK ADS 1202H Dry pump Transfer module: CYMECHS AI-2500 Transfer arm (Robot) PVSK ADS 1202H Dry pump Process module: LAM RESEARCH Torus 300S Chamber PVSK ADS 1202H Pump ADVANCED ENERGY RFG 1251 RF Generator LAM RESEARCH Torus 300S Gas box LAM RESEARCH Torus 300S PC HDD has been removed Operating system: Windows 2000 2010 vintage.
LAM RESEARCH Torus 300S/RF是一种为提供高通量性能和对工艺参数的精确控制而设计的蚀刻/asher设备。它采用低成本、灵活的设计,使用户能够轻松调整工艺流速和层轮廓,以达到所需的表面质量。Torus 300S/ RF通过其365mm x 365mm x 25mm宽的加工室提供高等离子体蚀刻均匀性,允许更高的长宽比和更厚的蚀刻膜。其先进的冷却系统可实现更高效的操作,从而实现更好的蚀刻深度和无缺陷的表面。设备由先进的射频发生器供电,提供独立的离子和自由基,可以精确优化每个蚀刻步骤。该装置支持所有介电、有机和金属材料的等离子体蚀刻,并具有额外的蚀刻几层材料的能力。Torus 300S/RF还配备了一个集成的、完全兼容的微量湿度系统,有助于确保极好的可重复性和可靠的、可重现的等离子体蚀刻结果。Torus 300S/RF可用于产生多种蚀刻形状,包括VPS沟槽、凹环、镀金通气以及空腔或切口。该设备配备了自动加载/卸载系统和触摸屏界面,用于用户友好的参数调整。它还能够维持高达585°C的高温,用于优质晶圆加工。此外,该设备的加电速度更快,只需40分钟即可完成蚀刻。LAM RESEARCH Torus 300S/RF是时间敏感工艺的理想蚀刻解决方桉。其模块化设计和一致的均匀蚀刻可实现可重复、可靠的工艺结果,并以低成本为用户提供高端蚀刻解决方桉。尽管体积很小,但它能够在最短的时间内处理最厚的薄膜。
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