二手 LAM RESEARCH V2 TM #9397706 待售
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已售出
ID: 9397706
晶圆大小: 12"
优质的: 2013
Etcher, 12"
Power rack
BROOKS MagnaTran7 Robot
(2) Flex F Process chambers
Flex G Process chamber
LAM Rocker valve
GIB Gas box
RPDB
Process chamber:
(2) Flex F Series
Flex G Series
EFEM:
BROOKS MN-002-7200 LPM
BROOKS 978-262-2 EEFM Robot
BROOKS 978-262-2900 EEFM Robot controller
EDWARDS EPX180NE Pump
2013 vintage.
LAM RESEARCH V2 TM是一种先进的蚀刻/灰分设备,设计用于对基板进行低热影响的干燥加工。它是一个双磁控管,双工艺源系统与先进的控制平台,以支持各种工艺要求。V2 TM为关键部件和组件提供了出色的保护,同时提供了卓越的一致性和可重复性。LAM RESEARCH V2 TM利用离子和自由基促进底物的蚀刻或灰化。它包含两个具有双电源的高性能磁控管,这些磁控管经过调整以提供所需的工艺配置文件。双磁控管安装在1/Semiconductor级(SCG)不锈钢腔室内,可有效散热,确保温度在工艺极限内。该单元还设有一个自动化的过程控制单元(PCU),以便于监测和控制蚀刻器/Asher。此外,一个先进的晶圆处理机集成在工具,以优化生产力和均匀性。可配置的真空资产可确保加工零件的过程和真空一致性。从配置流程条件到收集流程数据和优化流程性能,V2 TM蚀刻/灰分流程受到计算机的全面控制和监控。强大而先进的接口软件使它能够轻松地与现有或未来的自动化系统集成,从而确保无缝且高效的操作。LAM RESEARCH V2 TM还提供了卓越的工艺可重复性和均匀性,其生产级架空CAE模型可最大程度地减少基板加热。架空CAE还可以方便地运输基板和负载锁定元件,确保晶圆的平稳和一致的传输。V2 TM 蚀刻器/asher是经济高效、可靠的大容量干式加工的理想选择。LAM RESEARCH V2 TM具有先进的控制和强大的设备组件,可确保提高可靠性和高吞吐量能力。
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