二手 MARCH AP 1000 #9130033 待售
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已售出
ID: 9130033
优质的: 2006
Plasma cleaning system
ENI ACG-6B-07 Power supply, 1.6 kVA, 600 W, 13.56 MHz
EDWARDS iQDP Dry vacuum pump
(2) PORTER Mass flow controllers
Power requirements: 208-230 V, 3-Phase, 23 A, 50/60 Hz
2006 vintage.
MARCH AP 1000是一款台式批量蚀刻器/asher,设计用于实验室、微电子和生产领域。这种蚀刻器利用强大的离子辅助沉积物,在各种材料上实现极其均匀、清洁的表面。它能够蚀刻金属、陶瓷和半导体,具有工艺均匀性和可重复性。MARCH AP 1000可以以0.1至10 μ m/min的速率在单层中蚀刻1至350 μ m的材料,具体取决于蚀刻参数。蚀刻器使用两个独立的电源,对反应性离子和反应性气体进行控制和精确的组合。离子源提供所需的蚀刻选择性,并导致低应力蚀刻过程,消除后蚀刻损伤。蚀刻器还有一个气体输送系统,允许精确的气体控制进行精确的蚀刻和对蚀刻过程的精确控制。AP-1000配备数位控制,提供卓越的工艺和产品重复性、端点识别、± 5%的精确气压控制,以及显示蚀刻速率和其他蚀刻参数的数位显示。数字电路还允许用户控制和设置高达200 °C的蚀刻温度,从而可以精确控制温度控制的蚀刻过程。这种多功能蚀刻器可以蚀刻单层或多层结构,并在横向和垂直方向上蚀刻。蚀刻面积可达193mm x 193mm,可用于蚀刻小零件和大面板。它还包括一个真空系统,它允许广泛的应用,以及深蚀刻深度。AP 1000是一种用途广泛的蚀刻器/asher,专为各种应用而设计,从工业实验室和SMT (Surface Mount Technology)装配到高科技生产和装配。其精确和可重复的过程,加上易于使用的数字控制,使其成为需要精确蚀刻的应用程序的理想选择。
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