二手 MARCH CS 1701 #9124399 待售

ID: 9124399
晶圆大小: 8"
RIE system, 8" Clam shell Manual load MFCs currently set up for CF4, Ar, CHF3, O3 with N2 purge Advanced energy RFX-600 600 w Rf 13.56 Mhz power with auto-tuning Power supply: 110 V, 50/60 Hz.
MARCH CS 1701是为标准半导体制造而设计的先进蚀刻器/asher。该设备采用了强大的CO2激光器,其聚焦光束宽度为8-35 μ m,能够蚀刻到20 μ m以下的基板上。这种激光器与两轴镀锌扫描系统耦合,该系统能够扫描300 mm x 300 mm区域,最小分辨率为0.1 µm,以便在任何基板上精确蚀刻所需的图样。MARCH CS-1701 蚀刻器/asher还带有一个12英寸的X-Y-Z级,设计用于平滑定位基板。蚀刻时舞台的最大微调速度为120毫米/秒。舞台同样配有位于蚀刻区域上方的机械快门,以帮助屏蔽蚀刻过程中的任何微粒。CS 1701效率极高。此单元能够在理想的激光光斑尺寸下实现高达100 µm的蚀刻深度,并具有DRG功率控制功能,从而实现一致的工作效率和卓越的蚀刻质量。由于具有高度可靠和易于使用的控制器,因此无论基板材料或激光光束电源设置如何,该计算机都可以根据客户的说明快速调整设置。此蚀刻器/asher还可以提供卓越的模式识别,具有更高的精度。CS-1701是以每秒40 W的速度将简单和复杂的图样蚀刻和灰化到基板上的一种经济实惠的选择。它还能够与硅、玻璃、金属等各种材料一起工作,使其成为半导体行业应用的理想选择,如光刻生产、MEMS和微流体器件。
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