二手 MATRIX System One 103 #9201876 待售
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ID: 9201876
晶圆大小: 6"
Stripper, 6"
Included ranging:
50mm up to 150mm
The system optimizes vital device parameters:
Enhanced gate oxide integrity
Reduced threshold and capacitance voltage shifts
Reduced contact resistance / Oxidation
Photoresist Stripping:
High dose implant
Post-polysilicon etch
Post-metal etch
Post-oxide etch
Controlled resist removal:
Post-develop descum (pre-etch)
Dry / wet process capability
Uniformity capability (<5% 1σ)
GaAs, InP wafer strip and descum
Thin film head resist cleaning
Opto-electronic devices cleaning
MEMS
Single wafer multi-Step Processing:
Precisely controlled & repeatable stripping of each wafer
(3) programmable steps + overstrip
Capable of long process times for exceptional control
High throughput:
35 WPH on 150mm substrate
Aluminum Wafer Chuck:
Fast
Precise
Uniform removal of resist
Low Particles:
0.1 particles (>0.3μm) added per cm2
Proven System Performance:
700 System ones in use worldwide
95% uptime
Proven Reactor Design:
Closed-loop temperature control
Stable range for strip:
150°C – 250ºC (+/-5°C)
For descum:
70°C – 150ºC .
MATRIX Equipment One 103是一个先进的蚀刻和灰化系统，旨在为半导体器件的生产提供高效、精确的质量控制过程。103号机组是一台等离子体和湿蚀刻兼具的平面机，能够处理各类基材，包括硅片、金属、玻璃以及许多非金属和有机材料。MATRIX Tool One 103最大腔室尺寸为836mm x 788mm，设计提供高达20微米/秒的稳定蚀刻速率，具有极好的重复性和均匀性。Asset One 103具有多种特性和功能,使其成为复杂蚀刻和灰化应用程序的理想选择。该模型高度自动化,具有直观的触摸屏用户界面,使用户能够轻松输入参数并设置设备以实现最高效的操作。该系统还有各种各样的控制组件，包括基于平板电脑的控制器、可编程逻辑控制器（PLC）、气体歧管以及上下游过程监控单元。所有这些组件协同工作,使自定义工艺参数以获得所需的蚀刻和灰化结果成为可能。MATRIX Machine One 103还支持广泛的工艺化学，包括气态和液态化学。该工具提供了控制和监测反应参数如压力、温度、气流、电压和基板命令的有效手段。资产还包括自动晶圆识别和基板加载子模型，以提高制造吞吐量。设备1 103包含了一系列先进的安全功能，包括氮气净化能力以尽量减少有害气体，以及一个在线过滤系统以防止尘埃颗粒进入腔室。它还有一个可编程环境辅助蚀刻（PEAE）单元，旨在达到最佳蚀刻和灰化条件，不需要手动调整。该单元还有一台先进的监控机器，提供有关工艺参数的实时信息，如温度、压力和流量，提供了刀具性能的详细视图。总而言之,MATRIX Asset One 103旨在提供高效、精确的蚀刻和灰化工艺,并具有出色的质量控制。此模型具有广泛的高级功能,使其能够针对特定的应用程序进行定制,并提供出色的流程重复性和控制性。它是现代半导体蚀刻和灰化要求的理想选择，为用户提供了快速高效生产最优质产品的能力。
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