二手 MATRIX System One 105 #9098082 待售
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ID: 9098082
晶圆大小: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor-controlled
Single wafer, single cassette
Independent control of:
Pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
600W RF water cooled generator (ENI OEM-6)
Optically isolated wafer processing environment
Patented interleaved electrode assembly
Multi-step (3 Steps + over etch) process program
Butterfly valve for more precise pressure control
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM)
Closed-loop control of substrate temperature
Temperature range: 80°C to 250°C
Pin movement (Up and down).
MATRIX Equipment One 105是为专门的等离子体蚀刻和灰化应用而设计的高性能蚀刻/灰化系统。该装置能够在干蚀刻和湿蚀刻模式下运行，提供对蚀刻深度和均匀性的精确控制。Machine One 105由三个组件组成，包括一个射频电源、一个处理室和一个控制器模块。射频电源可为基板提供高达2.5kW的功率,从而可以对5 µm深度进行深度蚀刻。基板的电源是直接供电或通过金属垫片掩模供电,具体取决于蚀刻应用。压力密封室确保了等离子体蚀刻的理想真空条件。该工具的专有控制器模块允许精确控制过程参数，包括等离子体蚀刻时间、过程压力、总气流和气体成分，并允许最多四种烟雾被独立监测。此外,快速循环的自动调谐功能确保了整个过程中的最佳处理条件。该资产还包括一个板载真空泵，以便于腔室撤离，以及允许方便数据传输和控制参数的软件。具有触摸屏操作的直观用户界面允许新手用户快速开始蚀刻过程。MATRIX Model One 105设计用于广泛的蚀刻和灰化应用，包括单层介电结构、浅沟隔离、金属化、MEMS和集成电路生产。这种强大的设备既适用于研究，也适用于工业蚀刻应用。它经过了彻底的测试，证明符合安全和环境标准，使其成为业余爱好者和专业人士的可靠选择。
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