二手 MATRIX System One 106 #9098102 待售
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ID: 9098102
晶圆大小: 4"-6"
Automatic photoresist stripper, 4"-6"
Microprocessor-controlled
Single wafer, single cassette
Independent controller:
Pressure
RF Power
Temperature
Gas flow
Substrate position
Includes:
600W RF Water cooled generator (ENI OEM-6)
Optically isolated wafer processing environment
Patented interleaved electrode assembly
Multi-step (3 Steps + over etch) process program
Butterfly valve for more precise pressure control
Phase magnitude detector to provide real-time RF impedance matching control
(2) Mass flow controllers (TG 5 SLPM, 300 SCCM)
Closed-loop control of substrate temperature
Temperature range: 80° to 300°C
Pin movement (Up and down)
Center drawer chuck
Cooling station
Controller:
Gas flows: Up to 3
RF Power: 100 to 500 W
Process pressure
Absolute endpoint time
Optical endpoint parameters
Gas controller:
Substrate positioning
Pressure controller.
MATRIX Equipment One 106是一个功能齐全的蚀刻和灰化系统，用于半导体实验室环境。对于那些寻求一种可靠的方法来制造晶片上的金属图样的人来说，它是一个完美的解决方桉，循环时间快，精度高，成本低。此单元能够在可变厚度和掩模层上蚀刻和灰化多达8英寸的晶片。Machine One 106使用先进的技术特性,以确保获得最佳的灰度和蚀刻效果。高精度、可重复的过程控制和快速的循环时间使其成为生产和研发活动的绝佳选择。它使用水平旋转的蚀刻和灰化平台来提高精度。该工具还与自动倒车资产集成在一起，以确保晶圆的正确蚀刻、清洁和调节。MATRIX Model One 106包括一个可调节的射频驱动电源，一个可调节的负载锁，可调节的气体输送设备，以及可调节的频率发生器。它具有可调节的单周期或双周期蚀刻和灰化模式,因此您可以根据您的特定需求定制工艺。可调射频驱动器还使System One 106能够与不同的气体和液体溷合物一起使用，因此可以使用多种材料操作单元。MATRIX Machine One 106具有低维护和用户友好的设计。它具有易于阅读、直观的用户界面,可实现快速、准确的操作。该工具能够在各种温度和压力环境中运行。它配备了多种安全特性和多种监控特性，确保晶片的处理安全准确。Asset One 106配备了多种组件,以实现高效可靠的蚀刻和灰化。它有一个机箱，旨在确保射频环境的清洁度，它的可调性允许调整蚀刻过程。该模型的高精度确保了蚀刻和灰化过程将材料引导到所需的区域，浪费最少。MATRIX Equipment One 106为研发和生产用途提供了价格合理且可靠的蚀刻和灰化解决方桉。对于那些想要在晶圆上获得快速循环时间和可靠的金属图样的人来说，这是一个绝佳的选择。
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