二手 MATTSON Aspen II #293619039 待售

MATTSON Aspen II是一种聚焦光束、蚀刻和灰化反应性离子蚀刻器（RIE）设备，用于各种高精度IC制造和先进材料研究应用。该系统的灵活性、准确性和可重复性使其成为从超高分辨率半导体器件阵列到沉积层蚀刻和灰化以及结构样式等应用的理想选择。蚀刻器提供了广泛的高级处理能力，包括精密等离子体剖析、清洁操作、蚀刻光刻、批刻蚀刻和高速率蚀刻。它利用标准直流电源或过滤交流电源分别供电-从高频到200 kHz（或低频到50 kHz）基板电源。它配有一个或两个平面线圈，用于在晶圆上均匀均匀的光束。该单元具有高端特点，如内置氦质谱仪，用于监测等离子体质量。这确保了流程的可重复性,并保证了长达3,000小时的流程寿命。该机器的创新腔室设计还提供了改进的基板温度均匀性，以加快加工速度，温度可达1,000C。集成的基于微处理器的工具控制允许用户在过程运行过程中设置和存储流程、监控腔室条件和trouleshoot。资产上提供的性能分析选项包括1,2和3 MHz可调节光斑尺寸的光学性能分析器、BME传感器、实时光谱仪和可选的RGA传感器。Aspen II的先进技术允许最多16个基板一次装载和加工，最大基板尺寸为200毫米（8英寸）。基板支架的设计是为了在蚀刻过程中保持冷却和静止。高级安全功能包括检测晶圆断开并自动关闭模型的互锁。MATTSON Aspen II的应用包括光掩模和基板的图样化、电介质或保形涂层的去除、陶瓷的高速率批量蚀刻以及深凹陷特征、沟槽、孔和柱子的蚀刻。该设备也是超导薄膜沉积、纳米结构和图样传递的光刻定义、高产工艺产量、MEMS器件高精度蚀刻的绝佳选择。