二手 MATTSON Aspen II #293807044 待售
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MATTSON Aspen II是一款基于高性能微控制器的Plasma Asher/Etcher设备，非常适合研发和生产加工。该系统能够在各种气体和工艺化学中进行蚀刻和灰化。该单元包括一个电极电源和一个工艺室，允许广泛的薄膜蚀刻和沉积过程。Aspen II机的工作压力范围为1-100毫升，利用远程等离子体源和RF RF/DC脉冲电源产生高密度的等离子体羽流。这种羽状物在甲烷、氙和氧的范围内具有弹性，其他稀有气体和离子可用于专门的应用。用于等离子体离子特性分析的集成二次离子质量检测器（SIMS）为用户提供精确的过程曲线和等离子体蚀刻结果。MATTSON Aspen II的精密工程构造和在其构造中使用的先进材料使其成为一种坚固可靠的工具。该资产还在其设计中内置了几项保护措施，如用于流加热的防回流和真空冷却器，使其成为蚀刻坚韧材料的理想选择，如石英，以及多种半导体材料。该模型具有几个安全特性，使其适用于敏感过程，包括深紫外线滤波、慢速脱气特征和晶圆光敏跟踪系统。自动化的Aspen II易于使用,并且可以以最小的工作量集成到任何现有的流程工具包中。最后,高性能设备确保了工业级蚀刻/灰化系统所期望的过程质量的一致性、可重复性和高度可控性。其用户友好的图形用户界面（GUI）提供了简单的编程、预处理设置和对流程的完整监控。MATTSON Aspen II具有出色的中程压力均匀性，能够以高达9um的精度进行蚀刻。Overal, Aspen II是所有蚀刻/灰化应用程序的绝佳选择,使用户能够以高度的可重复性、均匀性和成本效益获得卓越的工艺效果。
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