二手 MATTSON Aspen II #9185171 待售

MATTSON Aspen II是一种反应性离子蚀刻和asher设备，专门设计用于半导体晶圆制造工艺。该系统能够用各种蚀刻/灰分工艺化学方法对基材进行蚀刻和灰化。它具有高速、高通量的蚀刻和灰度，这要归功于其精确定位的电极、非常高的重复性和低污染水平。Aspen II旨在同时处理酸和气体，并且可以处理所有类型的蚀刻/灰分工艺化学，而无需进行重大修改。MATTSON Aspen II可以用于入射基板的等离子体蚀刻、灰化和灰化蚀刻，以及薄膜的沉积。该单元自成一体，在单级真空室中运行，密封并保持在特定压力下。它包括一台蚀刻/灰分气体输送机、一个反应室、一个射频辐射电源以及一个用于操作和监测过程的控制器。该腔室的定制设计是通过精心设计的电极阵列对基板进行均匀蚀刻，提供对基板表面化学的非常精确的控制。使用Aspen II的优点包括循环时间快、吞吐量高、重复性极高、污染水平低。该工具设计为在低压环境中运行，在此环境中，蚀刻工艺经过优化，以获得最佳效果。内置气体输送资产是可编程的，以便在处理不同的工艺化学和底物时提供灵活性。射频辐射电源进一步确保了蚀刻过程的准确和控制。车型的保养也很简单，性价比也很高。腔室和气体输送设备可以拆卸清洗，需要时容易更换所有零件。该系统还配置用于自动诊断和故障排除,这使得维护非常快速和容易。最后，MATTSON Aspen II是一种非常有能力的蚀刻和粉刷装置，专门设计用于半导体晶圆的制造过程。它具有很高的准确性和效率，必要时很容易更换其组件。无论是在初始投资方面，还是在维护和保养方面，它也非常具有成本效益。对于任何需要可靠、可重复、快速蚀刻和粉刷基板的行业来说,Aspen II都是一个很好的解决方桉。