二手 MATTSON Aspen II #9407761 待售

MATTSON Aspen II是一种中等功率到高功率的等离子体蚀刻反应堆。它能够蚀刻各种类型的晶片，包括砷化氙、硅、氮化氙和磷化铵。Aspen II提供了一个大的、高度精确的工艺包络,允许对平面、平面和3D几何形状进行精确蚀刻。MATTSON Aspen II配备了感应耦合等离子体源来产生等离子体，以及下游表面安装的屏蔽来帮助遏制等离子体并减少污染。该源能够产生氧气和CF4等离子体，峰值功率高达1400瓦。该源利用计算机控制系统，保证了过程参数的一致供电和可重复性。Aspen II在蚀刻工艺几何形状方面提供了高度的灵活性。腔室可以容纳直径不超过12英寸、深度不超过3英寸的晶片。它能够蚀刻锥形和浮雕特征，以及更复杂的结构。此外，MATTSON Aspen II与各种下游工艺室兼容，包括电镀、光刻和沉积。Aspen II的其他特性包括它能够蚀刻最小分辨率为0.1um的细纹，以及在晶圆表面上蚀刻速度的高均匀性。MATTSON Aspen II也提供高吞吐量，处理时间为每晶圆5分钟或更短。Aspen II是一个理想的蚀刻研究工具，由于其大的工艺包络和高通量。其高度的柔韧性和精确度使其适合于不同基材的高级蚀刻。