二手 MATTSON Aspen #293774634 待售
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ID: 293774634
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
System, 8"
Process: PR Asher
MATTSON Standard dual arm robot
Back chamber: RISSHI EXH-1004 Chiller
Utility box: PCW Distribution
Chamber position:
Back chamber: ICP Asher
Side chamber: ICP Asher
Back and side chamber:
Process: PR Asher
Tube material: Quartz
ADVANCED ENERGYE RFPP 30S RF Generator
TRAZAR AMU-10D-3 RF Matcher
CMLB-11506 Pressure guage
MDV018 Throttle valve
ACX120103 Throttle valve controller
PARTLOW MIC 2000 Temperature controller
Gas box:
Gas-1: O2, 5000 SCCM
Gas-2: O2, 200 SCCM
Gas-3: CF4, 300 SCCM
Gas-4: H2/N2, 3000 SCCM
Transformer: 200 VAC - 100 VAC
1999 vintage.
MATTSON Aspen是一家领先的用于半导体行业的蚀刻和灰分设备制造商。MATTSON成立于1988年，在生产符合半导体制造工艺苛刻要求的先进、可靠、高性能的蚀刻和灰化工具方面建立了良好的声誉。Aspen系列蚀刻器和灰烬机设计用于提供先进半导体器件制造中必不可少的精确、均匀的蚀刻和灰化工艺。这些工具被用于半导体制造设施，在制造过程中有选择地从晶片表面去除材料。MATTSON Aspen系列提供了一系列针对各种处理需求和应用而量身定制的蚀刻和灰化解决方桉。这些工具以处理各种材料的多功能性、准确性和效率着称，包括硅、二氧化硅、金属薄膜和电介质。Aspen系列的一个关键特点是其先进的过程控制能力。这些工具配有高级监控和控制系统，可确保精确的过程参数，如蚀刻速率、选择性、均匀性和端点检测。这使半导体制造商能够实现高工艺重复性和产量,这是实现设备性能一致的关键因素。MATTSON Aspen蚀刻器和ashers的设计也注重生产力和灵活性。这些工具旨在提供高吞吐量和快速处理速度,使半导体制造商能够满足严格的生产计划并最大限度地提高晶圆输出。此外,这些工具还提供模块化设计,便于定制和升级,以适应不断变化的流程要求。在技术方面，阿斯彭系列融合了先进的等离子体蚀刻和灰化技术，以实现精确和受控的材料去除。这些工具利用一系列等离子体源，包括电感耦合等离子体（ICP）、电容耦合等离子体（CCP）和反应性离子蚀刻（RIE），以高选择性和均匀性蚀刻和灰分材料。MATTSON Aspen工具还具有创新的腔室设计和气体输送系统，可优化工艺均匀性，增强蚀刻和灰烬性能。工具配有射频电源、气流控制器、温度控制系统、端点检测传感器，确保过程控制准确、效果可靠。此外,Aspen系列还提供全面的服务和支持网络支持,包括维护、培训和应用程序支持,以帮助客户优化工具性能并最大限度地提高运营效率。MATTSON由经验丰富的工程师和技术专家组成的团队与客户密切合作,以应对其特定的流程挑战,并确保成功实施这些工具。总体而言,MATTSON Aspen系列蚀刻器和分类器是创新、可靠和高性能的工具,在使半导体制造商实现高质量的设备制造和满足快速发展的半导体行业的需求方面发挥着至关重要的作用。Aspen工具非常注重先进的工艺控制、生产率和技术创新,非常适合半导体制造设施,力求在半导体器件制造方面取得卓越成就。
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