二手 MATTSON Paradigm SI #293820191 待售

MATTSON Paradigm SI是最新的电化学蚀刻技术，在设计时考虑到精密和高性能。大面积蚀刻工艺的特点是具有高密度特征和低成本的工艺材料。优化单晶片工艺，使1 µm方阵蚀刻具有极好的总收率，完全消除了边缘拉断或相关电气缺陷的风险。对Paradigm SI进行高效的单晶圆处理,可显着节省与双通或三通流程相关的返工成本。MATTSON Paradigm SI非常适合要求具有高度均匀轮廓和横截面特征的高精度蚀刻特性的应用。此过程还允许通过使用专门设计的窗口掩码实现高长宽比蚀刻,这些掩码可与多级蚀刻过程结合使用。蚀刻特性的非凡均匀性使得这种蚀刻工具非常适合MEM应用和微流体设备。该设备还能够根据蚀刻工艺要求进行干式和湿式化学蚀刻作业。该工艺的干蚀刻部分是使用低频高压交流电源完成的，该电源采用两级工艺运行；第一阶段侧重于降低表面清洁状态，而第二阶段则是蚀刻阶段。湿蚀刻工艺采用高度选择性的化学液体化学组合，如氢氟酸、硫酸等。范式SI还得益于智能监控系统，该系统监控整个蚀刻过程，从基板制备到最终产品。这确保了激光烧蚀和蚀刻结果的可重复性和可预测性，因为监视器不断提供有关蚀刻速率、溅射屈服和其他相关参数的反馈。该单元还与用于控制所有刀具功能和参数的监控控制机器集成在一起，允许用户跟踪随着时间推移的蚀刻进度以及完整的全流程可追踪性。总体而言,MATTSON Paradigm SI是一款高度精密的蚀刻器,其特点和功能使其非常适合需要可靠、可重复和可重现的蚀刻特征结果的应用程序。此资产允许各种蚀刻过程,能够处理高长宽比蚀刻,并提供出色的过程控制和可追踪性。