二手 MATTSON Paradigm SI #9231983 待售

MATTSON Paradigm SI是一种用于半导体加工应用的各向异性蚀刻器/asher。它利用多阶段的循环过程来实现对蚀刻/灰化过程的非常精确的控制。该过程从干蚀刻步骤开始。腔室充满了一个气体等离子体，由射频场产生，来自一个13.56 MHz的电源。这个过程剥去晶圆表面的污染物，并将其转化为气态。蚀刻后进行湿法处理。将氢氧化钾（KOH）和去离子水溶液引入室内，用于与污染物发生反应。这种反应和随后的KOH蒸发有助于进一步剥离材料，同时确保表面光滑。灰化相利用氧气（O2）等离子体和热氮（N2）气流的组合。这有助于分解晶圆表面的有机材料，减少碳积聚量。该过程的最后阶段有助于改善表面粗糙度,并从蚀刻/灰化过程中去除任何残留材料。采用Ar和O2等离子体定时工艺对晶片表面进行溅射，进一步改善表面纹理，最大限度地减少电路寿命退化的问题。范例SI能够非常精确地控制Etch/Ashing过程。此精度有助于确保产品的最佳质量和缩短周期时间。多级工艺确保了基板之间的高度均匀性和非常干净的表面光洁度。这使得MATTSON范式SI成为介电层、屏障层和金属化层的理想选择。