二手 MAXIS 300LAH #9258012 待售

MAXIS 300LAH是为高吞吐量应用而设计的高级蚀刻和灰化设备。该系统配有300纳米零离子源和高速脉冲控制，提供卓越的蚀刻和灰化效果。300LAH由一个紧凑的四轴机器人控制器、一个自动晶片装载机、一个多模晶片处理程序和一个300纳米Ga离子源组成。晶圆处理单元允许以高达每小时500晶圆的吞吐量速率同时蚀刻和粉刷两个晶圆。自动加载程序允许一次快速加载多达15个晶片,而多模式晶片处理程序允许处理不同的晶片模式,而无需额外的手动设置。300纳米Ga离子源设计为产生高质量的蚀刻和灰化效果。离子源配有高温高压喷射撇渣器，产生均匀、高通量的输出。它还具有一个专有的电子冲击发射器，产生一束穿透晶圆表面的高能离子束，从而改善蚀刻和灰化效果。此外，可以调整光束的产生以产生不同的表面效果，以获得各种结果。先进的自动对焦机有助于提高过程的均匀性和准确性。该工具具有自调整级对焦平面间隙,可精确控制光束的形状和方向,确保离子以质量蚀刻和灰化过程所需的精度撞击晶片。MAXIS 300LAH具有出色的安全特性,如离子室净化、资产诊断、光束和晶圆安全反馈系统以及警报模型。所有这些功能都为用户提供了安全的环境,从而实现了安全可靠的操作。总之，300LAH是一个功能强大的多功能蚀刻和asher设备，设计用于高吞吐量的应用。300奈米的氙离子源、自动对焦系统和先进的安全特性，可以实现高效、精确的蚀刻和灰化工艺。这个单元非常适合大型生产和研究用途。