二手 NOVELLUS Gamma 300 #132117 待售

NOVELLUS Gamma 300是一款单晶片电化学蚀刻器/asher，设计用于先进的光掩模光刻工艺。它配备了强大的等离子体系统，能够产生高达70瓦的RIE功率，并且可以蚀刻多晶硅、氧化硅和铝，深达2700埃。伽玛300使用了几种先进的蚀刻技术，包括控制栅格反应性离子蚀刻（CGRIE）和平面蚀刻（PE）。CGRIE是双层蚀刻和单层或多层掩蔽的组合。PE允许精确控制高纵横比垂直蚀刻。这两种技术都以很高的速度产生统一的高质量模式。NOVELLUS Gamma 300还利用了一种专利工艺室，它需要最少的维护，而且蚀刻深度的可重复性很强。它具有低压、低温操作，减少产生的废物量，比其他单晶片蚀刻器需要更少的能量。该系统采用晶圆存储器、装载器和卸载器模块、机器人机械手以及各种控制模块。所有这些模块都由易于使用的触摸屏界面控制,该界面允许操作员轻松浏览各种蚀刻过程。Gamma 300具有高达30个晶片/小时的出色吞吐量和全自动蚀刻工艺,是任何蚀刻和光掩模光刻应用的绝佳选择。