二手 NOVELLUS Vector #167888 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 167888
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
System, 12"
Dual FOUP
Single wafer load locks
Wafer centering with OTF
Undoped TEOS
ILDS
Bottom facilities
Remote cables: 75ft
User interface: Right
Heated process chamber manometer
Remote clean
Dual wavelength end point
Aera FC-PA7810C MFCs:
He 20L
Ar 10L
N2 10L
C2H2 10L
SiH4 500cc
SiH4 1.5L
CO2 35L
N2 35L
NH3 20L
NF3 10L
O2 20L
N2O 1.5L
N2O 25L
High Freq RF generator
Low Freq RF generator
SEC/GEM
HPM detector interface
2005 vintage.
NOVELLUS Vector是为电子工业设计的蚀刻/灰烬设备。它能够处理广泛的材料,包括铝、铜、钛等常见材料和低k介电材料等复杂介电。矢量是一种基于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的机器,这意味着它使用反应性气体的高温离子将介电层和金属层沉积到基板上。当底物相对于离子源移动时,这个过程被重复,导致金属和介电沉积的复杂模式,具有精确的地形。NOVELLUS Vector能够在金属和200微米的非金属材料中蚀刻到500-Micrometers深。它在玻璃真空室中具有独特的特点,提供了卓越的均匀性、均匀的蚀刻深度和出色的加工速率。Vector具有软件增强的电弧处理功能,可改进过程控制和可重复性,以及由图形用户界面控制的自动化工具。该软件允许调整特定应用程序的压力和温度,并且有预定义的蚀刻过程可以设置和调用常规作业。NOVELLUS Vector还具有快速关闭蚀刻过程的气体关闭阀,以及降低微蚀刻和图案变形的低振动环境。这样可以提高蚀刻速率、均匀性和准确性。Vector结合了一个多离子源和一个机器人基板处理程序,允许它一次处理多达3个基板。它还具有多室功能,允许用户在不同的真空室中蚀刻和粉刷。NOVELLUS Vector能够处理多种基材,包括晶圆、金属和玻璃。矢量还包括晶圆平坦度控制和外国粒子检验系统,该系统在必要时识别外来颗粒并拒绝加工过的基板,从而确保用户获得最高产量环境。NOVELLUS Vector的温度控制区和过程气体管理提供了稳定的等离子体环境和优异的蚀刻/灰烬特性。额外的化学浴也可以用于额外的蚀刻和灰分操作。Vector是为电子行业设计的高级蚀刻/灰分单元,为用户提供了广泛的功能,这些功能旨在为各种材料提供卓越的工艺控制和可重复性。其多腔室能力、软件增强的电弧控制以及国外的粒子检测机,为用户提供了一个强大可靠的工具来满足他们的蚀刻/灰烬需求。
还没有评论