二手 OXFORD 80 PECVD #9131938 待售

OXFORD 80 PECVD（等离子体增强型化学气相沉积）是一种先进的干蚀刻/灰化设备，能够以精确和经济高效的方式处理各种材料。PECVD工艺利用氧化和还原化学物质的气体溷合物，在等离子体室内进行溷合和电离，以创造高反应性环境。结果是薄膜层的沉积，同时蚀刻或冲洗掉不希望得到的材料，从而对材料特性进行精确的控制和操作。OXFORD 80+PECVD模型是为过程灵活性和性能而构建的。它包括一个6区工艺室，内部基板温度控制系统从15°C到250°C。高级流程控制单元允许精确调整和可重复的流程参数。机器还采用了可选的纯射频通道加法，它提供了额外的离子，用于优化蚀刻和灰化过程，而不会造成等离子体损坏的风险。80 PECVD可以蚀刻铝、铜、金、铂等材料。它还可以对聚酰亚胺、光致抗蚀剂、低k电介质、GaAs结构等材料进行灰化处理。该工艺能够在单个腔室中以高通量整流精细沉积步骤，从而提高工艺效率。此外,80+ PECVD还提供了出色的过程重复性,可实现最大产量和可靠性。OXFORD 80 PECVD是半导体器件制造和微加工应用的理想工具。广泛应用于汽车、航天、消费电子等行业。蚀刻器/asher提供卓越的蚀刻和灰烬质量,能够安装复杂而精致的集成电路组件,这些组件需要精确的性能和可靠的操作。总体而言,OXFORD 80+PECVD是一种对各种材料进行高效且经济实惠的蚀刻/粉碎器。它提供了极大的灵活性、过程控制和可靠性,非常适合各种微加工过程。