二手 OXFORD INSTRUMENTS Opal #293759975 待售
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ID: 293759975
晶圆大小: 4"
优质的: 2015
Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) system, 4"
Mass Flow Controller 1: H2 50 SCCM
Mass Flow Controller 2: NH3 100 SCCM
Mass Flow Controller 3: N2 100 SCCM
Mass Flow Controller 4: O2 100 SCCM
Mass Flow Controller 5: Ar 100 SCCM
Substrate holder: 240 mm resistance-heated (up to 400°C)
Remote Plasma source: 300 W Capacity at 13.56 MHz (RF generator and automatic matching unit)
Metal precursors delivery: (2) Bubblers and (2) vapor drawns
Gas lines: Non-toxic gas lines (3 lines) and toxic gas lines (2 lines) with individual Mass Flow Controller (MFC)
Water delivery kit
Ozone generator
Vacuum gauges: 1000mT CM gauge and Penning
Pumping pipe work: 40 mm (heating kit)
Materials tested: Al2O3 films only with Ar, O2, TMA
TMA Precursor
Silicon wafer
PC
Operating system: Windows 7 Pro
2015 vintage.
OXFORD INSTRUMENTS Opal是一款尖端的等离子体蚀刻器/asher设备，旨在为半导体、MEMS和纳米技术行业的广泛应用提供先进的处理能力。这套创新系统将最先进的技术与精密控制相结合，实现各种材料的高度精确、均匀的蚀刻和粉刷，使其成为研发实验室以及生产环境不可或缺的工具。蛋白石单元利用高密度等离子体源产生高能等离子体，通过化学和物理过程的结合有效地从底物中去除物质。该等离子体源由先进的射频（RF）等离子体技术提供动力，使密度、温度和离子能量等等离子体参数的精确调谐能够优化不同材料上的蚀刻和灰化性能。OXFORD INSTRUMENTS Opal的一个关键特点是其先进的过程控制能力，允许用户实时定义和监控关键过程参数。该机器配备了一个用户友好的界面，提供对各种流程配方的访问，并允许轻松定制流程参数以满足特定要求。这一级别的控制使用户能够实现较高的流程重复性和可靠性，确保一批又一批的结果一致。蛋白石工具还提供了高度的灵活性，具有处理各种基材尺寸和类型的能力，包括硅、玻璃、III-V材料、聚合物等等。该资产配备了多用途的晶片卡盘设计，容纳了不同的晶片大小和形状，可以同时处理单个晶片和批处理模式，以满足不同应用的需要。在蚀刻能力方面，OXFORD INSTRUMENTS Opal模型擅长在广泛的材料上实现高蚀刻率和选择性，使其非常适合于模式转移、材料去除和设备制造等应用。该设备能够产生高长宽比的高各向异性蚀刻剖面，从而能够以高精度和保真度制造复杂的微结构。此外，蛋白石系统还配备了先进的灰化能力，用于去除底物中的有机污染物和光致抗蚀剂残留物。该装置的高密度等离子体源有效地分解了有机材料和挥发性化合物，留下了干净且无残留物的表面，而不会损坏下面的底物。总体而言，OXFORD INSTRUMENTS Opal是一款尖端的等离子体蚀刻器/asher机器，为各种纳米技术应用提供无与伦比的性能、精确控制和工艺灵活性。Opal工具以其先进的技术和创新的设计，是研究人员和制造商希望在半导体和微加工过程中取得高质量和可靠加工成果的有力工具。
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