二手 OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus #293824941 待售

OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus是一款高度先进的等离子体蚀刻器/asher设备,设计用于在研究和生产环境中精确高效地处理各种样品。PlasmaLab 80 Plus以OXFORD INSTRUMENTS在等离子处理技术方面的着名专业知识为基础,融合了尖端功能和创新的设计元素,提供卓越的性能和灵活性。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus的核心是它的高密度等离子体源，它产生一个均匀稳定的等离子体，能够提供高度各向异性的蚀刻/灰化剖面，具有非凡的选择性和过程控制。该系统配备了多个气体注入口和一个精密的气体输送单元，允许用户量身定制工艺参数，以实现不同材料和结构所需的蚀刻特性。PlasmaLab 80 Plus具有宽敞的工艺室,具有较大的晶圆处理能力,可为高吞吐量应用程序在一次运行中处理多个样品。腔室配有先进的温度控制和压力调节系统，可在整个蚀刻/灰化周期内将工艺条件保持在最佳水平，确保在整个样品表面具有可重现的结果和极好的均匀性。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus的关键优势之一是其先进的流程监控能力。该机配备了一整套原位诊断工具，包括光发射光谱（OES）、质谱和激光干涉测量，允许在处理过程中实时监测等离子体参数和气体化学。这使用户能够即时优化工艺条件并进行调整以获得所需的蚀刻结果。而且，PlasmaLab 80 Plus与OXFORD InSTRUMENTS直观的过程控制软件完全集成，它为设置过程配方、监控过程参数以及实时分析数据提供了用户友好的界面。该软件还提供高级数据记录和分析工具，用于全面的流程优化和质量控制。除了在等离子体蚀刻/灰化方面的先进能力外，OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus还可以方便地配置用于广泛的应用，包括反应性离子蚀刻（RIE）、深层硅蚀刻、聚合物去除和表面改性。该工具支持多种工艺气体，如CF4、SF6、O2、Ar和Cl2，使其适合加工多种材料，包括硅、二氧化硅、金属、聚合物和复合半导体。总体而言,PlasmaLab 80 Plus是一款用途广泛且功能强大的等离子体蚀刻器/asher资产,为要求苛刻的研究和生产应用程序提供无与伦比的性能、灵活性和控制。OXFORD INSTRUMENTS PlasmaLab 80 Plus凭借其先进的功能、直观的软件界面和稳健的设计，是实现高质量蚀刻成果、加快半导体器件制造创新、MEMS/NEMS开发和先进材料研究的不可或缺的工具。